物理気相合成 (PVD) によるシリコン (ケイ素：Si) ナノ超微粉末-シリコンナノ超微粉末

物理気相合成 (PVD) によるシリコン (ケイ素：Si) ナノ超微粉末
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この製品について

物理気相合成 (PVD) によるナノ超微粉末 (50nm,100nm) (数十nmを実現し、さらなる微粉化に挑戦中。) ナノ級超微粉末の可能性に挑戦 物理気相合成 (PVD) により、数十ナノ (nm) を実現。さらに、1桁レベルに挑戦中。 

■カスタマイズ可能範囲Si純度・不純物濃度・酸素濃度・結晶構造・粒子サイズ・粒子形状等、未だ開発途上。御社のニーズに合わせて、研究を進めます。

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この商品には1種類の型番があります

シリーズ
物理気相合成 (PVD) によるシリコン (ケイ素：Si) ナノ超微粉末

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物理気相合成 (PVD) によるシリコン (ケイ素：Si) ナノ超微粉末品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	形態	化学式	CAS RN®	製造方法	最低出荷数量	最大出荷数量	納期の目安	原産国
	シリコンナノ超微粉末	要見積もり	超微粉末	Si	7,440-21-3	物理気相合 (Physical Vapor Deposition : PVD)	1kg以上	1,000kg/月程度	30日	中国