物理気相合成 (PVD) による シリコン (ケイ素：Si) ナノ超微粉末
日本NER株式会社
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この製品について
物理気相合成 (PVD) によるナノ超微粉末 (50nm,100nm) (数十nmを実現し、さらなる微粉化に挑戦中。) ナノ級超微粉末の可能性に挑戦 物理気相合成 (PVD) により、数十ナノ (nm) を実現。さらに、1桁レベルに挑戦中。
■カスタマイズ可能範囲
Si純度・不純物濃度・酸素濃度・結晶構造・粒子サイズ・粒子形状等、未だ開発途上。御社のニーズに合わせて、研究を進めます。-
シリーズ
物理気相合成 (PVD) による シリコン (ケイ素：Si) ナノ超微粉末
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取扱企業
日本NER株式会社
物理気相合成 (PVD) による シリコン (ケイ素：Si) ナノ超微粉末 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 形態 | 化学式 | CAS RN® | 製造方法 | 最低出荷数量 | 最大出荷数量 | 納期の目安 | 原産国 |
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シリコンナノ超微粉末 |
要見積もり | 超微粉末 | Si | 7,440-21-3 | 物理気相合 (Physical Vapor Deposition : PVD) | 1kg以上 | 1,000kg/月程度 | 30日 | 中国 |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
