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RTP装置 RTP-1200Aシリーズ-株式会社インターテック販売

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返答率

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返答時間

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工程

成膜

メーカー

PREMTEK

仕様 温度制御範囲

200~1,250℃

仕様 温度制御方式

マルチPIDコントロール

仕様 面内温度均一性

・≦±3% (600℃以下) ・≦±1.5% (600℃以上)

仕様 面内抵抗値均一性

<1.5%~2.5% (1σ)

仕様 真空

仕様 ウエハ寸法

6~8

仕様 加熱ランプ

タングステン・ハロゲンランプ

仕様 ウエハ搬送

フルオート (5軸ロボット)

仕様 プロセスガス系統数

4

仕様 ウエハ位置合わせ

・センタリング ・OCR,アライナー (Op)

仕様 昇温レート

25℃/秒 (サセプタ使用時)

仕様 サセプタ

SiCコーティングカーボン

仕様 装置外形寸法

D: 1,580 × W: 1,500 × H: 1,800mm

この製品について

■特長

・Premtek社のRTP装置は世界で500台以上の納入実績があり、その多くが化合物プロセスで使用されています。 ・サセプタを使用してのチャンバー内のプロセスを実施するためSiC/Silicon/Sapphire/GaAs/InPなど多くの化合物ウエハの処理が可能です。また、化合物ウエハの反りが原因での温度測定不良を防ぐために、サセプタ上にTPを配置しています。 ・上面ランプ、下面ランプ、サイドランプを複数のゾーンに分配し、各々のゾーンを個別にPIDコントロールすることにより高い面内均一性を実現しています。 ・高性能多軸ロボットを搭載することにより位置決め、チャンバー、クーリング・ユニット間をスムーズに反動することが可能です。 ・装置内はクラス100で保たれており、オープンカセットの他にSMIFカセットの使用が可能です。 ・Windowsベースのソフトウエアは使いやすく、多くのプロセスレシピの登録や変更が容易で、ランタイム時のプロセスの状況を簡単に把握することが可能です。

  • 型番

    RTP-1200A

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RTP装置 RTP-1200Aシリーズ RTP-1200Aの性能表

商品画像 価格 (税抜) 工程 メーカー 仕様 温度制御範囲 仕様 温度制御方式 仕様 面内温度均一性 仕様 面内抵抗値均一性 仕様 真空 仕様 ウエハ寸法 仕様 加熱ランプ 仕様 ウエハ搬送 仕様 プロセスガス系統数 仕様 ウエハ位置合わせ 仕様 昇温レート 仕様 サセプタ 仕様 装置外形寸法
RTP装置 RTP-1200Aシリーズ-品番-RTP-1200A 要見積もり 成膜 PREMTEK 200~1,250℃ マルチPIDコントロール ・≦±3% (600℃以下)
・≦±1.5% (600℃以上)
<1.5%~2.5% (1σ) 6~8 タングステン・ハロゲンランプ フルオート (5軸ロボット) 4 ・センタリング
・OCR,アライナー (Op)
25℃/秒 (サセプタ使用時) SiCコーティングカーボン D: 1,580 × W: 1,500 × H: 1,800mm

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使用用途

#アニール #ガス雰囲気処理 #セラミックス処理 #乾燥 #焼結 #焼鈍 #焼入 #脱脂 #熱処理試験 #雰囲気制御 #溶解

加熱方式

電気 ガス インダクション 赤外線

加熱対象

金属 セラミック プラスチック

形状

立式 横型

構造

真空 アルゴン 断熱

温度管理

恒温 高温 過熱防止

最高温度 ℃

100 - 700 700 - 1,100 1,100 - 1,200 1,200 - 1,300 1,300 - 1,400 1,400 - 1,500 1,500 - 1,600 1,600 - 1,700 1,700 - 1,800

炉内容積 L

0 - 5 5 - 10

温度分布

3 - 6 6 - 10

電源電圧

AC100V AC110V AC200V AC220V AC380V AC400V

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この商品の取り扱い会社情報

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3.1時間

会社概要

インターテック販売では、半導体製造装置やその部品について、新品から中古品までお客様のニーズに合わせてご提案しております。海外メーカーの正規販売代理店として輸入販売している他、保証・アフターサービスのあるリファービッシュ品...

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