MILA-5000-P-N (近赤外型) | 熱処理・加熱装置赤外線イメージ炉実験用途卓上型ランプ加熱装置 MILA-5000シリーズ
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温度範囲

室温~1,200℃

ランプ

近赤外ランプ

試料寸法

角20mm×厚2mm

測定雰囲気

大気中、真空中、ガスフロー中

アプリケーション

真空排気装置 (ロータリーポンプセット) 冷却水循環ユニット

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この製品について

■概要小サンプルの研究開発に最適。高速加熱・高速冷却、クリーン加熱が行えます。

自在な雰囲気下で加熱する事が可能で温度コントローラと雰囲気可変チャンバが一体化した小型で低価格な赤外線ランプ加熱装置です。加熱操作をUSB接続によりパソコン上で行え手軽にデータ管理出来ます。

■用途・強誘電体薄膜の結晶アニール
・イオン注入後の拡散アニール、酸化膜生成アニール
・Si、化合物ウェハのシンタリング、アロイング処理
・ガラス基板の灼熱アニール
・熱サイクル、熱衝撃、熱疲労試験
・昇温脱離試験、触媒効果試験

■特長・50℃/sの高速加熱
・真空中、ガス中、ガスフロー中、大気中と任意の雰囲気選択
・精密な温度コントロール
・卓上型でコンパクトな設計

型番
MILA-5000-P-N (近赤外型)

シリーズ
熱処理・加熱装置赤外線イメージ炉実験用途卓上型ランプ加熱装置 MILA-5000シリーズ

取扱企業
アルバック販売株式会社

カテゴリ

熱源

加熱炉

加工・工作機器

アニール炉

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熱処理・加熱装置赤外線イメージ炉実験用途卓上型ランプ加熱装置 MILA-5000シリーズ MILA-5000-P-N (近赤外型) の性能表

商品画像	価格 (税抜)	温度範囲	ランプ	試料寸法	測定雰囲気	アプリケーション
	要見積もり	室温~1,200℃	近赤外ランプ	角20mm×厚2mm	大気中、真空中、ガスフロー中	真空排気装置 (ロータリーポンプセット) 冷却水循環ユニット

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使用用途

#アニール #ガス雰囲気処理 #セラミックス処理 #乾燥 #焼結 #焼鈍 #焼入 #脱脂 #熱処理試験 #雰囲気制御 #溶解

最高温度 ℃

100 - 700 700 - 1,100 1,100 - 1,200 1,200 - 1,300 1,300 - 1,400 1,400 - 1,500 1,500 - 1,600 1,600 - 1,700 1,700 - 1,800

炉内容積 L

0 - 5 5 - 10

温度分布

0 - 3 3 - 6 6 - 10

電源電圧

AC100V AC110V AC200V AC220V AC240V AC380V AC400V

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