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熱処理・加熱装置 赤外線イメージ炉 実験用途 卓上型ランプ加熱装置 MILA-5050-アルバック販売株式会社

MILA-5050 | 熱処理・加熱装置 赤外線イメージ炉 実験用途 卓上型ランプ加熱装置 MILA-5050
アルバック販売株式会社

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温度範囲

室温~1,200℃

試料寸法

角50またはΦ50 × t5 (mm)

加熱雰囲気

真空中、各種ガスフロー中

加熱速度

50℃/s

温度分布

1%以内 (1,000℃時)

この製品について

■概要

本装置は、試料寸法50mm角までの熱処理を可能とした卓上型ランプ加熱装置です。 試料寸法20mm角までの加熱装置として、卓上型ランプ加熱装置MILA-5000シリーズを発売以来、多くのお客様にご愛用いただいておりますが、「もう少し大きい試料の熱処理がしたい」というお客様のご要望にお応えし、加熱炉、チャンバ、温度制御器を一体にしたコンパクトなボディはそのままに、50mm角までの熱処理を可能といたしました。

■用途

1. Si ウエハ、化合物ウエハの高速加熱 2. 光CVDの基板加熱などのエレクトロニクス材料の高速加熱 3. ガラス基板、セラミックス、複合材料などの熱処理 4. 熱サイクル試験 5. 金属材料の焼鈍 6. コーティング膜の耐熱評価 7. 有機材料、樹脂類の加熱、乾燥

■特長

1. 最大W 50mm × L 50mmサイズまでの試料の熱処理が可能 2. 最高使用温度は1,200℃ 3. 加熱炉、チャンバ、温度制御器を一体化した卓上型 4. Cold Wall構造による急速加熱/冷却とクリーン加熱が可能 5. 温度レシピはUSB接続したパソコンで簡単入力 6. 加熱中の温度データをパソコン画面に表示可能 (テキストファイルとして保存も可能)

  • 型番

    MILA-5050

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熱処理・加熱装置 赤外線イメージ炉 実験用途 卓上型ランプ加熱装置 MILA-5050 MILA-5050の性能表

商品画像 価格 (税抜) 温度範囲 試料寸法 加熱雰囲気 加熱速度 温度分布
熱処理・加熱装置 赤外線イメージ炉 実験用途 卓上型ランプ加熱装置 MILA-5050-品番-MILA-5050 要見積もり 室温~1,200℃ 角50またはΦ50 × t5 (mm) 真空中、各種ガスフロー中 50℃/s 1%以内 (1,000℃時)

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アルバック販売株式会社は、1970年に設立された、真空機器関連の専門商社です。 株式会社アルバック（神奈川県）のグループ会社の1社であり、アルバック社の真空機器の国内販売を担います。販売先は、大手メーカーや官公庁・大学...

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