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熱処理・加熱装置 赤外線イメージ炉 実験用途 赤外線ランプアニール装置 RTAシリーズ-アルバック販売株式会社

RTA-2000 | 熱処理・加熱装置 赤外線イメージ炉 実験用途 赤外線ランプアニール装置 RTAシリーズ
アルバック販売株式会社

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試料寸法

2in

温度範囲

室温~1,000℃ (温度範囲もカスタム可能)

測定雰囲気

各種雰囲気下で対応可能

アプリケーション

CtoC対応 前後工程装置との連結 カスタマイズ可能

この製品について

■概要

2inから300mmまでの高速熱処理。保持まで10秒。高速加熱技術を結集し、研究開発から生産用までお客様のニーズにお応えした装置を製造・販売いたします。最大温度1,450℃の高温雰囲気下での加熱も対応いたします。

■用途

・LED基板アニール ・活性化アニール ・SiCウェハーのアニール ・パワーデバイスのアニール ・シリサイド形成・サリサイド形成 ・酸化雰囲気対応可能

■特長

・高速熱処理が可能 ・コールドウォール構造の為、重金属汚染がありません ・CtoCロボット搬送システム対応可能 ・製造工程装置との組み合わせ・連結が可能

  • 型番

    RTA-2000

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熱処理・加熱装置 赤外線イメージ炉 実験用途 赤外線ランプアニール装置 RTAシリーズ RTA-2000の性能表

商品画像 価格 (税抜) 試料寸法 温度範囲 測定雰囲気 アプリケーション
熱処理・加熱装置 赤外線イメージ炉 実験用途 赤外線ランプアニール装置 RTAシリーズ-品番-RTA-2000 要見積もり 2in 室温~1,000℃ (温度範囲もカスタム可能) 各種雰囲気下で対応可能 CtoC対応
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アルバック販売株式会社は、1970年に設立された、真空機器関連の専門商社です。 株式会社アルバック（神奈川県）のグループ会社の1社であり、アルバック社の真空機器の国内販売を担います。販売先は、大手メーカーや官公庁・大学...

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