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熱流体解析ソフト PHOENICS CVD Package-ZWSOFT Japan株式会社

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この製品について

■熱流体解析ソフトPHOENICS CVD

『CVD』は、「chemical vapor deposition」の略。直訳は化学蒸着反応。化学気相成長法といいます。化学気相成長法とは、半導体集積回路 (IC) を製造する工程のうち、化学反応を利用して基板をシリコンの薄膜でコーティングする手法のことです。 また、「CVD装置」は薄膜形成装置の一つで半導体の表面に10nm~1000nm程度の薄い膜を堆積する装置です。その「CVD製造装置」内の広範囲な振る舞いをシミュレーションできるのが、『PHOENICS CVD Package』です。

■熱流体解析ソフト PHOENICS CVD Package

『PHOENICS CVD Package』は、当時のヨーロッパ共同体 (EC) の「ESPRITプロジェクト」において弊社の3次元汎用熱流体解析コード「PHOENICS」をベースに、Siemens (シーメンス:オランダ) 、Technical University of Delft (デルフト工科大学:オランダ) 、ASM International (ASMインターナショナル:オランダ) 、Fraunhofer Institute (フラウンホーファー研究機構:ドイツ) 等の協力の元で開発されました。

■主な特徴

・CVD装置内の流れ、熱移動と化学反応計算 ・プラズマCVDに対応 (Drift-diffusion model) ・多成分の混合ガスに対応 (物性値は自動的に平均化) ・熱幅射解析 (形態係数) ・わかりやすいメニュー機能 ・豊富な物性値データベース ・化学反応データベース (CHEMKIN)

■基本機能 

・メニュー形式による簡単なデータセットアップ ・固体表面の蒸着化学反応 ・多成分混合ガスの拡散、熱拡散 ・ドリフト拡散モデルによるプラズマシミュレーション

■輸送、熱力学、物性、化学反応等のパラメータデータファイルの追加機能

『CHEMKIN』形式のため簡単追加

■Surface to Surface 熱輻射 (表面間輻射)

・輻射モデルには、ビュー・ファクター (形態係数) に基づく表面間輻射が含まれます。 ・輻射の効果は、既存のエネルギー式の熱連成解法内に組み込まれます。

  • 型番

    PHOENICS CVD Package

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使用用途

#空調設計 #自動車開発 #配管設計 #熱交換器設計 #燃焼解析 #医療機器設計 #電子機器冷却 #建築設計 #ターボ機械設計 #化学装置設計

メモリ GB

4 - 8 8 - 16 16 - 64

ストレージ GB

0 - 10 10 - 50 50 - 100 100 - 500 500 - 1,000

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