ドイツ・CCR社製、ICP方式のプラズマソースです。ヨーロッパのほぼすべての装置メーカーで、そのPVDアシスト用、またはPECVD用のプラズマソースとして採用されています。

■特徴・CCR社独自技術により、1m以上の大型プラズマソースの納入実績多数
・CCR社独自技術により、蒸着、スパッタ、PECVDの各真空度に調整可能
・ICP方式な為、チャンバー汚染リスクが低く、メンテナンス負荷が低い
・ICP方式な為、投入パワーに伴うイオンエナジーの変化が少なく基板ダメージが少ない。

■摘要1：スパッタ中の酸化、窒化アシスト効果：メタルモード並みの成膜レートでリアクティブコーティング

■摘要2：スパッタ真空域でのPECVD効果：スパッタ装置にPECVDを組み込み可能

■摘要3：PVD成膜前の、エッチング効果：密着性の向上

■摘要4：PVD成膜中のArアシスト効果：成膜層の高密度化

註1：PVDアシスト評価用ユニットのお貸出し相談可
註2：PECVDデモ成膜相談可

■プラズマ発生方式ICP (誘導結合プラズマ：Inductively Coupled Plasma) 

型番
LS Copra (1E-2mbar)

シリーズ
ICPプラズマソース COPRA

取扱企業
株式会社スパッタリングコンポーネンツジャパン

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ICPプラズマソース COPRA LS Copra (1E-2mbar) の性能表

商品画像	価格 (税抜)	真空度 (mbar)	動作中心域	プロセス
	要見積もり	1E-02	1Pa	スパッタ PECVD

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本社所在地: 千葉県

LS Copra (1E-2mbar) | ICPプラズマソース COPRA 株式会社スパッタリングコンポーネンツジャパン

株式会社スパッタリングコンポーネンツジャパンの対応状況

この製品について

■特徴

■摘要1：スパッタ中の酸化、窒化アシスト

■摘要2：スパッタ真空域でのPECVD

■摘要3：PVD成膜前の、エッチング

■摘要4：PVD成膜中のArアシスト

■プラズマ発生方式

ICPプラズマソース COPRA LS Copra (1E-2mbar) の性能表

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LS Copra (1E-2mbar) | ICPプラズマソース COPRA
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