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半導体プロセス

エイチ・ティー・エルのアニール炉

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2 点の製品

株式会社エイチ・ティー・エル

Levitor RTP System 200mm/300mmウェーハRTPアニール装置 Levitor4000

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150umガスベアリングによる伝導熱アニールで、ランプ型放射熱アニールの問題を解決。 ■特長 ・900℃/秒の急速加熱、-300℃/秒の急速冷却...


株式会社エイチ・ティー・エル

Levitor RTP System 200mm/300mmウェーハRTPアニール装置 LEVO6000

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150umガスベアリングによる伝導熱アニールで、ランプ型放射熱アニールの問題を解決。 ■特長 ・900℃/秒の急速加熱、-300℃/秒の急速冷却...


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