泉谷機械工業の電子ビーム描画装置

FPD各種部材 走査幅全域においてビーム形状が同じで高精度な描画が可能 テレセンfθ レーザ直描装置

株式会社ワイ・ドライブ

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マスクレス露光装置 DMDによる直接描画で半導体デバイス試作のサイクルタイムを削減 マスクレス露光装置 ME-120F

株式会社ピーエムティー

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マスクレス露光装置 PALET 電動ステージモデル DDB-701-DL

ネオアーク株式会社

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マスクレス露光装置 PALET 手動ステージモデル DDB-701-MS

ネオアーク株式会社

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マスクレス露光装置 3次元形状レーザ露光装置

ネオアーク株式会社

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マスクレス露光装置 PALET 大型ステージモデル DDB-701-DL4

ネオアーク株式会社

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ナノパターン露光装置 PhableR 100

株式会社協同インターナショナル

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マスクレス露光装置 DMDの高速時間変調で256階調のグレースケール露光が可能 マスクレス露光装置 D-light DL-1000

株式会社ピーエムティー

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露光装置 セミオートアライナー MA-4000

株式会社菱光社

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マスクレス露光装置 ミニマル マスクレス露光装置

株式会社ピーエムティー

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光学素子設計/加工装置 マスクレス露光装置 SMART PRINT UV スタンダード

株式会社フィジックステクノロジー

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電子ビーム描画装置 (可変／スポット) JBX-A9 シリーズ

日本電子株式会社

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