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アドバンテストの電子ビーム描画装置

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株式会社アドバンテスト

マスクレスで65nmノード以降の微細加工対応を実現 電子ビーム露光装置 F3000

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■特徴 ・マスクレスによる多品種・少量生産を低コスト・短TATで実現 ・65nmノード以降の微細化に対応 ・ブロック露光による高スループットを実現 ■マスクレ...


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