産業用製品メーカー比較 | Metoree
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株式会社アドバンテスト
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最新の閲覧: 38分前
返信の比較的早い企業
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■特徴 ・マスクレスによる多品種・少量生産を低コスト・短TATで実現 ・65nmノード以降の微細化に対応 ・ブロック露光による高スループットを実現 ■マスクレ...
半導体製造
電子ビーム描画装置
FPD各種部材 走査幅全域においてビーム形状が同じで高精度な描画が可能 テレセンfθ レーザ直描装置
株式会社ワイ・ドライブ
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最新の閲覧: 59分前
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4種類の商品があります
マスクレス露光装置 DMDによる直接描画で半導体デバイス試作のサイクルタイムを削減 マスクレス露光装置 ME-120F
株式会社ピーエムティー
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