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協同インターナショナルの電子ビーム描画装置

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ナノパターン露光装置 PhableR 100-株式会社協同インターナショナル

株式会社協同インターナショナル

ナノパターン露光装置 PhableR 100

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PhableR100はタルボ効果を用いることにより周期構造に対して ハーフピッチ150nmの微細で一括露光できる特殊な装置です。 電子ビーム描画...


ナノパターン露光装置"PhableR 100"-株式会社協同インターナショナル

株式会社協同インターナショナル

ナノパターン露光装置"PhableR 100"

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■PhableR 100は、300nmピッチ以下の高解像度を実現 ・PhableR 100 は、EULITHA社独自の露光技術であるPHABLE (Photonics Enablerの短縮...


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