産業用製品メーカー比較 | Metoree
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1 点の製品
株式会社協同インターナショナル
100人以上が見ています
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PhableR100はタルボ効果を用いることにより周期構造に対して ハーフピッチ150nmの微細で一括露光できる特殊な装置です。 電子ビーム描画レベルの解像度で周期...
半導体製造
電子ビーム描画装置
マスクレスで65nmノード以降の微細加工対応を実現 電子ビーム露光装置 F3000
株式会社アドバンテスト
最新の閲覧: 3時間前
返答時間: 17.73時間
FPD各種部材 走査幅全域においてビーム形状が同じで高精度な描画が可能 テレセンfθ レーザ直描装置
株式会社ワイ・ドライブ
120人以上が見ています
最新の閲覧: 12時間前
返答時間: 94.62時間
4種類の商品があります
マスクレス露光装置 DMDによる直接描画で半導体デバイス試作のサイクルタイムを削減 マスクレス露光装置 ME-120F
株式会社ピーエムティー
110人以上が見ています
マスクレス露光装置 PALET 電動ステージモデル DDB-701-DL
ネオアーク株式会社
230人以上が見ています
返答時間: 54.31時間
マスクレス露光装置 PALET 手動ステージモデル DDB-701-MS
220人以上が見ています
最新の閲覧: 7時間前
マスクレス露光装置 3次元形状レーザ露光装置
150人以上が見ています
最新の閲覧: 5時間前
マスクレス露光装置 PALET 大型ステージモデル DDB-701-DL4
140人以上が見ています
最新の閲覧: 8時間前
マスクレス露光装置 DMDの高速時間変調で256階調のグレースケール露光が可能 マスクレス露光装置 D-light DL-1000
最新の閲覧: 2時間前
露光装置 セミオートアライナー MA-4000
株式会社菱光社
40人以上が見ています
返答時間: 32.33時間
マスクレス露光装置 ミニマル マスクレス露光装置
70人以上が見ています
PCB製造用 ローダ&アンローダ付露光装置
泉谷機械工業株式会社
270人以上が見ています
光学素子設計/加工装置 マスクレス露光装置 SMART PRINT UV スタンダード
株式会社フィジックステクノロジー
返答時間: 65.41時間