産業用製品メーカー比較 | Metoree
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株式会社ワイ・ドライブ
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テレセントリックfθ レンズによるレーザ露光のため、走査幅全域においてビーム形状が同じで高精度な描画が可能。直描装置本体部をコンパクトなサイズに納めま...
4種類の品番
半導体製造
電子ビーム描画装置
マスクレスで65nmノード以降の微細加工対応を実現 電子ビーム露光装置 F3000
株式会社アドバンテスト
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マスクレス露光装置 DMDによる直接描画で半導体デバイス試作のサイクルタイムを削減 マスクレス露光装置 ME-120F
株式会社ピーエムティー
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