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LP-8150MK2はハロゲンランプを使用したリフローはんだ付け装置です。遠赤や熱風方式のように基板全体を加熱するのではなく、ランプの光...
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RF-430は遠赤外線と熱対流を基本加熱にした、窒素 (N2) 対応の小型リフローはんだ付け装置 (リフロー炉) です。卓上の小型リフロー装置...
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RF-110MK2は手動式遠赤外線リフローはんだ付け装置 (リフロー炉) です。200×200mmまでのプリント基板を両面リフローはんだ付けできます...
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RF-110N2MK2は手動式遠赤外線リフローはんだ付け装置 (リフロー炉) です。200×200mmまでのプリント基板を両面リフローはんだ付けできま...
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RF-210Vは高真空環境でリフローはんだ付けを行います。本装置は実験・試作や小ロットの生産用、超低価格の真空炉です。パワー半導体やパ...
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RF-250は熱容量の大きな、ホットプレート式リフローはんだ付け装置 (リフロー炉) です。遠赤や熱風方式では難しい大きな熱容量を必要と...
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RF-250-8は熱容量の大きな、ホットプレート式リフローはんだ付け装置 (リフロー炉) です。遠赤や熱風方式では難しい大きな熱容量を必要...
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RF-250N2は熱容量の大きな、ホットプレート式リフローはんだ付け装置 (リフロー炉) です。遠赤や熱風方式では難しい大きな熱容量を必要...
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RF-460は赤外線と窒素 (N2) を基本加熱にした、鉛フリーはんだ対応の小型リフローはんだ付け装置 (リフロー炉) です。卓上の小型リフロ...
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RF-560は赤外線と熱風を基本加熱にした、窒素 (N2) 対応の鉛フリーはんだ用中型リフローはんだ付け装置 (リフロー炉) です。卓上の中型...
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RF-630は赤外線式、鉛フリーはんだ対応の小型リフローはんだ付け装置 (リフロー炉) です。卓上の小型リフロー装置ながら遠赤 (IR) 6ゾー...
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RF-630PTは赤外線式、鉛フリーはんだ対応の小型リフローはんだ付け装置 (リフロー炉) です。卓上の小型リフロー装置ながら遠赤 (IR) 6ゾ...
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RF-810は赤外線と熱風を基本加熱にした、窒素 (N2) 対応の鉛フリーはんだ用中型リフローはんだ付け装置 (リフロー炉) です。卓上の中型...
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実験・試作用の、バッチ式ベーパーフェイズリフローはんだ付け装置 (リフロー炉) です。フッ素系不活性液体 (フロリナートやガルデン) ...
日本パルス技術研究所のはんだ付け装置14製品中の注目ランキング
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