熱酸化装置とは
熱酸化装置 (英: Thermal Oxidizers) とは、半導体素子の材料であるウェハーにシリコン熱酸化膜を形成する装置です。
水素ガスと酸素ガスを加熱されている配管の中に供給し、加熱したウェハーに熱酸化の反応を起こします。熱酸化が起こったことにより原料であるウェハーが自然酸化を起こし、シリコン熱酸化膜を形成する仕組みです。
熱酸化装置を使用することで、真空状態や加圧状態にする必要がなく安定した酸化膜を形成することができます。成膜技術の基本となるため、産業業界で使用されるケースが多いです。