アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』 (テルモセラ・ジャパン株式会社) のカタログ情報
アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』
製品個別カタログ
カタログ紹介
アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』
C/Cコンポジットヒーター採用：小規模生産も可能なマルチ雰囲気ウエハーアニール装置
◉Max2000℃（真空中1x10-5Torr, N2, Ar）
◉ヒーター材質：
・高純度グラファイト：Φ6〜Φ8inch
◉使用雰囲気：
・真空・不活性ガス（グラファイト）
◉試料台サイズφ4inch〜φ8inch
◆主な特徴◆
・セミオート：真空・パージ（3 cycle）〜 ベントまでを自動シーケンス制御（標準）
・手動プロセス圧力制御（標準）：手動ベローズバルブ調整 ・有効加熱範囲：φ4-φ8inch（その他サイズ可能）
・高真空対応（ターボ分子ポンプ）
◆オプション◆
・フルオート自動プロセス運転（オプション）
・自動APC制御（オプション）： -1) Upstreamコントロール：MFC供給量をPIDループ自動制御、又は -2) Downstreamコントロール：排気側開度自動調整
・基板回転機構
・SECS/GEM通信
C/Cコンポジットヒーター採用：小規模生産も可能なマルチ雰囲気ウエハーアニール装置
◉Max2000℃（真空中1x10-5Torr, N2, Ar）
◉ヒーター材質：
・高純度グラファイト：Φ6〜Φ8inch
◉使用雰囲気：
・真空・不活性ガス（グラファイト）
◉試料台サイズφ4inch〜φ8inch
◆主な特徴◆
・セミオート：真空・パージ（3 cycle）〜 ベントまでを自動シーケンス制御（標準）
・手動プロセス圧力制御（標準）：手動ベローズバルブ調整 ・有効加熱範囲：φ4-φ8inch（その他サイズ可能）
・高真空対応（ターボ分子ポンプ）
◆オプション◆
・フルオート自動プロセス運転（オプション）
・自動APC制御（オプション）： -1) Upstreamコントロール：MFC供給量をPIDループ自動制御、又は -2) Downstreamコントロール：排気側開度自動調整
・基板回転機構
・SECS/GEM通信
カタログについて
- カタログ名
- アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』
- 取り扱い企業
- テルモセラ・ジャパン株式会社
- 該当カテゴリ
- 真空炉 電気炉 アニール炉
- カタログタイプ
- 製品個別カタログ
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