ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】 (テルモセラ・ジャパン株式会社) のカタログ情報
ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】
製品個別カタログ
カタログ紹介
欧州アカデミックパートナーとの共同開発。ウエハースケール・グラフェン合成装置。
Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。
熱CVD、低温～高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給系統、基板加熱ヒーターなどご要望により構成をカスタマイズ致します。
【装置構成例】
・基板：Cu, Ni, 他..（フィルム, フォイル）
・原料：CH4, C2H4, solids (PMMA), etc..
・プロセスガス：H2, Ar, N2, etc..
・基板サイズ：Φ4inch
・150W, 13.56MHz RF電源
・500℃～Max1100℃基板加熱
・高精度プロセスガス圧力APC制御
・マスフローコントローラー最大4ch
Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。
熱CVD、低温～高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給系統、基板加熱ヒーターなどご要望により構成をカスタマイズ致します。
【装置構成例】
・基板：Cu, Ni, 他..（フィルム, フォイル）
・原料：CH4, C2H4, solids (PMMA), etc..
・プロセスガス：H2, Ar, N2, etc..
・基板サイズ：Φ4inch
・150W, 13.56MHz RF電源
・500℃～Max1100℃基板加熱
・高精度プロセスガス圧力APC制御
・マスフローコントローラー最大4ch
カタログについて
- カタログ名
- ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】
- 取り扱い企業
- テルモセラ・ジャパン株式会社
- 該当カテゴリ
- グラフェン プラズマCVD装置 CVD装置
- カタログタイプ
- 製品個別カタログ
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