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CVD装置『nanoCVD-8G/8N』グラフェン/CNT合成装置 (テルモセラ・ジャパン株式会社) のカタログ情報

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CVD装置『nanoCVD-8G/8N』グラフェン/CNT合成装置

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カタログ紹介

CVD装置『nanoCVD-8G/8N』グラフェン/CNT合成装置

◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT（SWNT）合成実験が可能
◉ 1バッチわずか30分！
◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール

◉ 急速昇温：RT→1100℃/約3分間

◉ 高精度温度流量制御・再現性に優れたハイパフォーマンス機

◆特徴◆

・簡単操作! 5inchタッチパネルによる操作
・レシピ管理
・最大30レシピ，30stepのプログラム作成可能

・専用ソフトウエア標準装備，CSVファイルで出力PCでデータロギング

・USBケーブル接続，PC側でのレシピ作成→装置へアップロード可能

・最大試料サイズ：40 x 40mm：銅（ニッケル）箔, SiO2/Si, Al2O3/Si基板，他


◆Model. nanoCVD-8G（グラフェン用）◆

・グラフェン生成用，真空プロセス制御

・ロータリーポンプ標準付属（オプション：TMP, Diffusion or Dry Pump）

・ガス供給3系統（標準）

・試料加熱ステージMax1100℃

・Kタイプ熱電対


◆Model. nanoCVD-8N（CNT用）◆

・CNT生成用，常圧プロセス制御
他同上

カタログについて

カタログ名
CVD装置『nanoCVD-8G/8N』グラフェン/CNT合成装置
取り扱い企業
テルモセラ・ジャパン株式会社
該当カテゴリ
グラフェン 成膜装置 CVD装置
カタログタイプ
製品個別カタログ

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