CVD装置『Nanofurnace 熱CVD装置』 (テルモセラ・ジャパン株式会社) のカタログ情報

CVD装置『Nanofurnace 熱CVD装置』

製品個別カタログ

カタログ紹介

CVD装置『Nanofurnace 熱CVD装置』

【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能CVD装置

◉ グラフェン, カーボンナノチューブ

◉ ZnOナノワイヤ

◉ SiO2等の絶縁膜など

その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応

【特徴】

◉ コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験が可能
◉ ホットウオール式 反応管内を均一に加熱

◉ 4系統(CH4, Ar, H2, バブラー用)MFC高精度流量制御:精度±1% F.S.

◉ キャパシタンスマノメータ(バラトロンゲージ)による高精度APC圧力制御

◉ Lab Viewソフトウエア(オプション)によるリモート制御, データ解析
【主仕様】

◉ Φ2.5inch(標準)Φ4inch x12inch石英反応管内

◉ 最高使用温度1100℃

◉ 試料サイズ:10x10mm, (Φ2.5inch)100 x 100mm(Φ4inch)

◉ PID温度コントロール:Eurotherm 2416プログラム温度調節計
◉ 流量制御:±1%F.S.  0sccm 〜 100, or 1000sccm(ガス種による)

◉ ロータリーポンプ付属

カタログについて

カタログ名
CVD装置『Nanofurnace 熱CVD装置』
取り扱い企業
テルモセラ・ジャパン株式会社
該当カテゴリ
グラフェン 成膜装置 CVD装置
カタログタイプ
製品個別カタログ

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