CVD装置『Nanofurnace 熱CVD装置』 (テルモセラ・ジャパン株式会社) のカタログ情報
CVD装置『Nanofurnace 熱CVD装置』
製品個別カタログ
カタログ紹介
CVD装置『Nanofurnace 熱CVD装置』
【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能CVD装置
◉ グラフェン, カーボンナノチューブ
◉ ZnOナノワイヤ
◉ SiO2等の絶縁膜など
その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応
【特徴】
◉ コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験が可能 ◉ ホットウオール式 反応管内を均一に加熱
◉ 4系統（CH4, Ar, H2, バブラー用）MFC高精度流量制御：精度±1% F.S.
◉ キャパシタンスマノメータ（バラトロンゲージ）による高精度APC圧力制御
◉ Lab Viewソフトウエア（オプション）によるリモート制御, データ解析 【主仕様】
◉ Φ2.5inch（標準）Φ4inch x12inch石英反応管内
◉ 最高使用温度1100℃
◉ 試料サイズ：10x10mm, （Φ2.5inch）100 x 100mm（Φ4inch）
◉ PID温度コントロール：Eurotherm 2416プログラム温度調節計 ◉ 流量制御：±1%F.S. 0sccm 〜 100, or 1000sccm（ガス種による）
◉ ロータリーポンプ付属
【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能CVD装置
◉ グラフェン, カーボンナノチューブ
◉ ZnOナノワイヤ
◉ SiO2等の絶縁膜など
その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応
【特徴】
◉ コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験が可能 ◉ ホットウオール式 反応管内を均一に加熱
◉ 4系統（CH4, Ar, H2, バブラー用）MFC高精度流量制御：精度±1% F.S.
◉ キャパシタンスマノメータ（バラトロンゲージ）による高精度APC圧力制御
◉ Lab Viewソフトウエア（オプション）によるリモート制御, データ解析 【主仕様】
◉ Φ2.5inch（標準）Φ4inch x12inch石英反応管内
◉ 最高使用温度1100℃
◉ 試料サイズ：10x10mm, （Φ2.5inch）100 x 100mm（Φ4inch）
◉ PID温度コントロール：Eurotherm 2416プログラム温度調節計 ◉ 流量制御：±1%F.S. 0sccm 〜 100, or 1000sccm（ガス種による）
◉ ロータリーポンプ付属
カタログについて
- カタログ名
- CVD装置『Nanofurnace 熱CVD装置』
- 取り扱い企業
- テルモセラ・ジャパン株式会社
- 該当カテゴリ
- グラフェン 成膜装置 CVD装置
- カタログタイプ
- 製品個別カタログ
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