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ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】
(テルモセラ・ジャパン株式会社) のカタログ
ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】
(テルモセラ・ジャパン株式会社) のカタログ情報
ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】
製品個別カタログ
カタログ紹介
欧州アカデミックパートナーとの共同開発。ウエハースケール・グラフェン合成装置。
Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。
熱CVD、低温~高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給系統、基板加熱ヒーターなどご要望により構成をカスタマイズ致します。
【装置構成例】
・基板:Cu, Ni, 他..(フィルム, フォイル)
・原料:CH4, C2H4, solids (PMMA), etc..
・プロセスガス:H2, Ar, N2, etc..
・基板サイズ:Φ4inch
・150W, 13.56MHz RF電源
・500℃~Max1100℃基板加熱
・高精度プロセスガス圧力APC制御
・マスフローコントローラー最大4ch
カタログについて
- カタログ名
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ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】
- 取り扱い企業
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テルモセラ・ジャパン株式会社
- 該当カテゴリ
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グラフェン
プラズマCVD装置
CVD装置
- カタログタイプ
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製品個別カタログ