ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】 (テルモセラ・ジャパン株式会社) のカタログ情報

ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

製品個別カタログ

カタログ紹介

欧州アカデミックパートナーとの共同開発。ウエハースケール・グラフェン合成装置。
Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。
熱CVD、低温~高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給系統、基板加熱ヒーターなどご要望により構成をカスタマイズ致します。
【装置構成例】
・基板:Cu, Ni, 他..(フィルム, フォイル)
・原料:CH4, C2H4, solids (PMMA), etc..
・プロセスガス:H2, Ar, N2, etc..
・基板サイズ:Φ4inch
・150W, 13.56MHz RF電源
・500℃~Max1100℃基板加熱
・高精度プロセスガス圧力APC制御
・マスフローコントローラー最大4ch

カタログについて

カタログ名
ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】
取り扱い企業
テルモセラ・ジャパン株式会社
該当カテゴリ
グラフェン プラズマCVD装置 CVD装置
カタログタイプ
製品個別カタログ

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