【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃ (テルモセラ・ジャパン株式会社) のカタログ情報
【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃
製品個別カタログ
カタログ紹介
半導体、電子基板、真空薄膜プロセス装置・研究開発用【ホットステージ】超高温基板加熱機構
CVD、PVD装置の超高温基板加熱ステージに、高温加熱・基板昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全てが1台で可能! 'All-In-One'コンポーネント
対応基板サイズ：Φ2〜6inch
真空（UHV対応可能）・不活性ガス・O2・各種プロセス反応性ガス雰囲気等でご仕様いただけます。（詳細別途協議）
【使用雰囲気】
◉ 超高真空・不活性ガス雰囲気中・その他各種プロセスガス雰囲気に対応
【主仕様】
◉ ステージ昇降（基板又はヒーター昇降、基板&ヒータ二段昇降式）
◉ 基板回転
◉ RF/DCプラズマエッチング（逆スパッタ）
◉ 使用環境に応じたエレメントの選択：
グラファイト, CCコンポジット, ハロゲンランプヒーター, グラファイト/SiCコーティング, グラファイト/PBNコーティング, PGコーティング, AlNヒーター
◉ 各種真空フランジ接続：ICF, ISO(KF/LF), JIS(VG/VF)フランジ
◉ K, C, R熱電対付属
◉ その他オプション：温度制御ユニット, SUS, Inc, グラファイト or SiC基板ホルダー
CVD、PVD装置の超高温基板加熱ステージに、高温加熱・基板昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全てが1台で可能! 'All-In-One'コンポーネント
対応基板サイズ：Φ2〜6inch
真空（UHV対応可能）・不活性ガス・O2・各種プロセス反応性ガス雰囲気等でご仕様いただけます。（詳細別途協議）
【使用雰囲気】
◉ 超高真空・不活性ガス雰囲気中・その他各種プロセスガス雰囲気に対応
【主仕様】
◉ ステージ昇降（基板又はヒーター昇降、基板&ヒータ二段昇降式）
◉ 基板回転
◉ RF/DCプラズマエッチング（逆スパッタ）
◉ 使用環境に応じたエレメントの選択：
グラファイト, CCコンポジット, ハロゲンランプヒーター, グラファイト/SiCコーティング, グラファイト/PBNコーティング, PGコーティング, AlNヒーター
◉ 各種真空フランジ接続：ICF, ISO(KF/LF), JIS(VG/VF)フランジ
◉ K, C, R熱電対付属
◉ その他オプション：温度制御ユニット, SUS, Inc, グラファイト or SiC基板ホルダー
カタログについて
- カタログ名
- 【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃
- 取り扱い企業
- テルモセラ・ジャパン株式会社
- 該当カテゴリ
- ヒーター 半導体製造装置 成膜装置
- カタログタイプ
- 製品個別カタログ
