CVD装置『nanoCVD-8G/8N』グラフェン/CNT合成装置 (テルモセラ・ジャパン株式会社) のカタログ情報
CVD装置『nanoCVD-8G/8N』グラフェン/CNT合成装置
製品個別カタログ
カタログ紹介
CVD装置『nanoCVD-8G/8N』グラフェン/CNT合成装置
◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT（SWNT）合成実験が可能
◉ 1バッチわずか30分！
◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール
◉ 急速昇温：RT→1100℃/約3分間
◉ 高精度温度流量制御・再現性に優れたハイパフォーマンス機
◆特徴◆
・簡単操作! 5inchタッチパネルによる操作
・レシピ管理 ・最大30レシピ，30stepのプログラム作成可能
・専用ソフトウエア標準装備，CSVファイルで出力PCでデータロギング
・USBケーブル接続，PC側でのレシピ作成→装置へアップロード可能
・最大試料サイズ：40 x 40mm：銅（ニッケル）箔, SiO2/Si, Al2O3/Si基板，他
◆Model. nanoCVD-8G（グラフェン用）◆
・グラフェン生成用，真空プロセス制御
・ロータリーポンプ標準付属（オプション：TMP, Diffusion or Dry Pump）
・ガス供給3系統（標準）
・試料加熱ステージMax1100℃
・Kタイプ熱電対
◆Model. nanoCVD-8N（CNT用）◆
・CNT生成用，常圧プロセス制御 他同上
◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT（SWNT）合成実験が可能
◉ 1バッチわずか30分！
◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール
◉ 急速昇温：RT→1100℃/約3分間
◉ 高精度温度流量制御・再現性に優れたハイパフォーマンス機
◆特徴◆
・簡単操作! 5inchタッチパネルによる操作
・レシピ管理 ・最大30レシピ，30stepのプログラム作成可能
・専用ソフトウエア標準装備，CSVファイルで出力PCでデータロギング
・USBケーブル接続，PC側でのレシピ作成→装置へアップロード可能
・最大試料サイズ：40 x 40mm：銅（ニッケル）箔, SiO2/Si, Al2O3/Si基板，他
◆Model. nanoCVD-8G（グラフェン用）◆
・グラフェン生成用，真空プロセス制御
・ロータリーポンプ標準付属（オプション：TMP, Diffusion or Dry Pump）
・ガス供給3系統（標準）
・試料加熱ステージMax1100℃
・Kタイプ熱電対
◆Model. nanoCVD-8N（CNT用）◆
・CNT生成用，常圧プロセス制御 他同上
カタログについて
- カタログ名
- CVD装置『nanoCVD-8G/8N』グラフェン/CNT合成装置
- 取り扱い企業
- テルモセラ・ジャパン株式会社
- 該当カテゴリ
- グラフェン 成膜装置 CVD装置
- カタログタイプ
- 製品個別カタログ
