【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃ (テルモセラ・ジャパン株式会社) のカタログ情報
【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃
製品個別カタログ
カタログ紹介
CVD, PVD（蒸着, スパッタ, PLD, ALD等）均熱性・再現性に優れた高真空 超高温ウエハー加熱用ホットプレート
ヒータープレートにインコネルもしくはBNプレートを採用した、熱放射効率が良く、均熱性に優れた成膜装置・真空薄膜実験用高真空対応ホットプレートです。
独自の方法で高真空用に放電対策絶縁処理された端子部、超高温均一加熱が得られる様工夫された抵抗発熱式加熱ブロックを内蔵、ヒータープレート表面を短時間で高温まで加熱昇温することができます。
【ラインナップ】
◎ SH-IN（インコネルプレート）：φ1.0〜φ6.1inch 真空・O2・活性ガス用
◎ SH-BN（BNプレート, Moカバー）：φ1.0〜φ6.1inch 真空・不活性ガス用
【特徴】
◎ 最高温度1100℃（SH-BN）, 850℃（SH-IN）
◎ 短時間昇温
◎ 面内温度分布 ±2%以内
◎ 制御精度・再現性±1℃
◎ 低価格
◎ 短納期
◆ヒーター仕様◆
◎ 使用発熱体
・NiCr（SH-IN型）, W/BNコンポジット（SH-BN型）
◎ 最高使用温度
・850℃（SH-IN型）, 1100℃SH-BN型
◎ 対応基板サイズ
・1〜6inch
◎ 使用雰囲気
・SH-IN：真空（1x10-7Torr）, 不活性ガス, 大気, O2, NH3, SiH4, CH4他
・SH-BN：真空（1x10-7Torr）, 不活性ガス, H2, He, CH4, C（*O2不可）
◎ 基板固定用サンプルクリップ付属
◆オプション仕様◆
◎ 真空フランジ（JIS, ICF, ISO）
◎ 基板回転, 上下昇降機構
◎ ヒーターコントローラ Model. BWS-PS/HC-Mini
ヒータープレートにインコネルもしくはBNプレートを採用した、熱放射効率が良く、均熱性に優れた成膜装置・真空薄膜実験用高真空対応ホットプレートです。
独自の方法で高真空用に放電対策絶縁処理された端子部、超高温均一加熱が得られる様工夫された抵抗発熱式加熱ブロックを内蔵、ヒータープレート表面を短時間で高温まで加熱昇温することができます。
【ラインナップ】
◎ SH-IN（インコネルプレート）：φ1.0〜φ6.1inch 真空・O2・活性ガス用
◎ SH-BN（BNプレート, Moカバー）：φ1.0〜φ6.1inch 真空・不活性ガス用
【特徴】
◎ 最高温度1100℃（SH-BN）, 850℃（SH-IN）
◎ 短時間昇温
◎ 面内温度分布 ±2%以内
◎ 制御精度・再現性±1℃
◎ 低価格
◎ 短納期
◆ヒーター仕様◆
◎ 使用発熱体
・NiCr（SH-IN型）, W/BNコンポジット（SH-BN型）
◎ 最高使用温度
・850℃（SH-IN型）, 1100℃SH-BN型
◎ 対応基板サイズ
・1〜6inch
◎ 使用雰囲気
・SH-IN：真空（1x10-7Torr）, 不活性ガス, 大気, O2, NH3, SiH4, CH4他
・SH-BN：真空（1x10-7Torr）, 不活性ガス, H2, He, CH4, C（*O2不可）
◎ 基板固定用サンプルクリップ付属
◆オプション仕様◆
◎ 真空フランジ（JIS, ICF, ISO）
◎ 基板回転, 上下昇降機構
◎ ヒーターコントローラ Model. BWS-PS/HC-Mini
カタログについて
- カタログ名
- 【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃
- 取り扱い企業
- テルモセラ・ジャパン株式会社
- 該当カテゴリ
- ヒーター 成膜装置 アニール炉
- カタログタイプ
- 製品個別カタログ
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