スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』RF/DCマグネトロンスパッタリングシステム (テルモセラ・ジャパン株式会社) のカタログ情報
スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』RF/DCマグネトロンスパッタリングシステム
製品個別カタログ
カタログ紹介
小型・省スペース ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置
nanoPVD-S10Aは、最大スパッタ3源+3系統（MFC制御）、RF/DC PSUの増設（最大2電源まで）連続多層膜・2源同時成膜（RF/DC、又はDC/DCのみ）、など多目的にお使い頂くことができます。
・絶縁膜
・導電性膜
・化合物、他大学・研究機関、企業開発部門などでの基礎実験、基礎技術開発に最適です。
【主な特徴】
◉ 対応基板：〜Φ4inch
◉ 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！）
◉ 2"スパッタカソード x 最大3源
◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール
◉ APC自動圧力コントロール
◉ MFC搭載高精度プロセス制御
◉ Arガス1系統（標準） + N2, O2 最大3系統まで増設
◉ USB端子付 Windows PCに接続し、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギング
◉ 他、基板回転・昇降、基板加熱（Max500℃）、磁性材用カソード、他多彩なオプションを用意
nanoPVD-S10Aは、最大スパッタ3源+3系統（MFC制御）、RF/DC PSUの増設（最大2電源まで）連続多層膜・2源同時成膜（RF/DC、又はDC/DCのみ）、など多目的にお使い頂くことができます。
・絶縁膜
・導電性膜
・化合物、他大学・研究機関、企業開発部門などでの基礎実験、基礎技術開発に最適です。
【主な特徴】
◉ 対応基板：〜Φ4inch
◉ 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！）
◉ 2"スパッタカソード x 最大3源
◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール
◉ APC自動圧力コントロール
◉ MFC搭載高精度プロセス制御
◉ Arガス1系統（標準） + N2, O2 最大3系統まで増設
◉ USB端子付 Windows PCに接続し、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギング
◉ 他、基板回転・昇降、基板加熱（Max500℃）、磁性材用カソード、他多彩なオプションを用意
カタログについて
- カタログ名
- スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』RF/DCマグネトロンスパッタリングシステム
- 取り扱い企業
- テルモセラ・ジャパン株式会社
- 該当カテゴリ
- スパッタリング装置 成膜装置 真空装置
- カタログタイプ
- 製品個別カタログ
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