蒸着装置『MiniLab-080フレキシブル薄膜実験装置』 (テルモセラ・ジャパン株式会社) のカタログ情報

蒸着装置『MiniLab-080フレキシブル薄膜実験装置』

製品個別カタログ

カタログ紹介

蒸着装置『MiniLab-080フレキシブル薄膜実験装置』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与

80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルです。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着(金属/絶縁物/有機材料),EB蒸着, RF/DC/PulseDC兼用マグネトロン式スパッタ, RIEプラズマエッチング, アニールなどの幅広い目的に対応。
・抵抗加熱蒸着源 x 最大4

・有機蒸着源 x 最大4

・マグネトロンスパッタリングカソード x 4

・電子ビーム蒸着

・基板加熱ステージ(標準500℃, Max1000℃)

・ドライエッチング
*プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーいずれも設置可能

【主仕様】

・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー
・ポンプ:ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ(ドライポンプも可)
・真空排気:真空/ベント自動制御
・抵抗加熱蒸着:最大4源点(Model. TE1~TE4蒸着源)
・有機蒸着:最大4源(Model. LTEC-1cc/5cc)
・EB電子ビーム蒸着源:7ccるつぼx6(又は4ccるつぼx8)
・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大4源
・プロセス制御:手動/自動多層連続成膜・多元同時成膜、APC自動制御
・膜厚モニタ:水晶振動子センサヘッドx4
・膜厚制御:MiniLab制御プログラム"IntelliDep"、及びInficon社 SQM-160(又はSQC-310) 多チャンネル成膜コントローラ
・ユーティリティ:電源200V 3相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa
・その他オプション:基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, ドライエッチング, ドライスクロールポンプ , ロードロック機構

カタログについて

カタログ名
蒸着装置『MiniLab-080フレキシブル薄膜実験装置』
取り扱い企業
テルモセラ・ジャパン株式会社
該当カテゴリ
蒸着装置 スパッタリング装置 プラズマエッチング装置
カタログタイプ
製品個別カタログ

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