精密研磨装置 MA-200 (ムサシノ電子株式会社) のカタログ情報
精密研磨装置 MA-200
製品個別カタログ
カタログ紹介
『MA-200』は、精度が高く、研究開発用の試料作製に好適な精密研磨装置です。
試料に合わせた研磨盤・研磨剤を使用することでより良い研磨面が得られ、研磨精度は平坦度λ/10以下、表面粗さ0.01μm以下を実現。
また、ICの断面、傾斜研磨、LN等の光学結晶の端面の研磨にも適しております。
【特長】
■精度が高く、研究開発用の試料作製に好適
■試料に合わせた研磨盤・研磨剤を使用することでより良い研磨面が得られる
■研磨精度は平坦度λ/10以下、表面粗さ0.01μm以下を実現
■エッジのダレが無く、介在物の脱落も無いためEPMA等での評価に好適
■ICの断面、傾斜研磨、LN等の光学結晶の端面の研磨にも適している
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報
【操作盤】
■切替スイッチ：TIMERモード/RUNモード/STOPの切替が容易に行える
■スピード調節ボリューム：調節ボリュームで研磨盤の回転速度を無段階調節することが可能
■タイマー：研磨時間を設定することができる（上限99分59秒まで）
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
試料に合わせた研磨盤・研磨剤を使用することでより良い研磨面が得られ、研磨精度は平坦度λ/10以下、表面粗さ0.01μm以下を実現。
また、ICの断面、傾斜研磨、LN等の光学結晶の端面の研磨にも適しております。
【特長】
■精度が高く、研究開発用の試料作製に好適
■試料に合わせた研磨盤・研磨剤を使用することでより良い研磨面が得られる
■研磨精度は平坦度λ/10以下、表面粗さ0.01μm以下を実現
■エッジのダレが無く、介在物の脱落も無いためEPMA等での評価に好適
■ICの断面、傾斜研磨、LN等の光学結晶の端面の研磨にも適している
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報
【操作盤】
■切替スイッチ：TIMERモード/RUNモード/STOPの切替が容易に行える
■スピード調節ボリューム：調節ボリュームで研磨盤の回転速度を無段階調節することが可能
■タイマー：研磨時間を設定することができる（上限99分59秒まで）
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
カタログについて
- カタログ名
- 精密研磨装置 MA-200
- 取り扱い企業
- ムサシノ電子株式会社
- 該当カテゴリ
- 研磨機 自動研磨機 ラップ研磨
- カタログタイプ
- 製品個別カタログ
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