ウェットステーション (株式会社インターテック販売) のカタログ情報
ウェットステーション
製品個別カタログ
カタログ紹介
柔軟度が高く正確なプロセスコントロール
200mmもしくは300mmウェハー用の自動ウェットプロセシングシステムである本製品はキャリア有無どちらでも使用でき、正確なプロセスモニタリ
ング、高い生産性と柔軟性を持つように設計されております。
RENAのSemi Processing Platformはお客様の要求によって調整できる柔軟性を持ち、最大の生産品質と量産性をもたらします。
特筆すべきは、フレキシブルキャリアレスハンドリングシステムで、厚みの異なるウェハーを同時に加工することが可能です。
【仕様】
■ アプリケーション：洗浄（SPM,SC1, SC2, DFH/O3等）、乾燥
■ プロセスコントロール：薬液/オゾン濃度モニター、純粋比抵抗、薬液コントロール
■ 基板材質：シリコン、SiC, GaAs, GaN, InP, Glass, Sappire
■ 膜厚：500～2000 μm
■ 筐体：PP、FM4910相当、ステンレス枠
■ 寸法：幅2200mm、高さ 3600mm (フローボックス含む）
■ モジュール寸法：
ウェハーサイズ 200 mm / 8” 300 mm / 12”
2槽 1400 mm 1600 mm
3槽 2100 mm 2400 mm
■ オプション：全自動ローダーアンローダーバッファーステーション、カスタムプロセスキャリア、薬液集中供給システム
200mmもしくは300mmウェハー用の自動ウェットプロセシングシステムである本製品はキャリア有無どちらでも使用でき、正確なプロセスモニタリ
ング、高い生産性と柔軟性を持つように設計されております。
RENAのSemi Processing Platformはお客様の要求によって調整できる柔軟性を持ち、最大の生産品質と量産性をもたらします。
特筆すべきは、フレキシブルキャリアレスハンドリングシステムで、厚みの異なるウェハーを同時に加工することが可能です。
【仕様】
■ アプリケーション：洗浄（SPM,SC1, SC2, DFH/O3等）、乾燥
■ プロセスコントロール：薬液/オゾン濃度モニター、純粋比抵抗、薬液コントロール
■ 基板材質：シリコン、SiC, GaAs, GaN, InP, Glass, Sappire
■ 膜厚：500～2000 μm
■ 筐体：PP、FM4910相当、ステンレス枠
■ 寸法：幅2200mm、高さ 3600mm (フローボックス含む）
■ モジュール寸法：
ウェハーサイズ 200 mm / 8” 300 mm / 12”
2槽 1400 mm 1600 mm
3槽 2100 mm 2400 mm
■ オプション：全自動ローダーアンローダーバッファーステーション、カスタムプロセスキャリア、薬液集中供給システム
カタログについて
- カタログ名
- ウェットステーション
- 取り扱い企業
- 株式会社インターテック販売
- 該当カテゴリ
- 洗浄装置
- カタログタイプ
- 製品個別カタログ
