オゾネーションモジュール 半導体および電子機器製造プロセス用ゴア®オゾネーションモジュール
日本ゴア合同会社
この製品について
■特徴
40年以上の実績を持つゴアのモジュールは、シリコンウエハーの洗浄および半導体/フラットパネルディスプレイ (FPD) 製造プロセス用として、高清浄度、無気泡 (バブルフリー) 、高濃度のオゾン水を生成してきました。このモジュールは、より環境に配慮した洗浄プロセスをサポートし、有害な薬液の削減、生産性の向上、そして稼働コストの削減を実現しています。 シリコンウエハーおよび半導体の洗浄プロセスでは、業界としてオゾン水処理へのシフトが進んでいます。混合薬液よりも環境に配慮されており、廃液処理を必要としないため、低コストで処理することができます。ゴアのオゾネーションモジュールは、今日のマーケットにおいて、高清浄度、無気泡 (バブルフリー) 、高濃度のオゾン水溶液を生成する唯一のモジュールです。 このモジュールは、半導体ウエハー洗浄とフラットパネルディスプレイ (FPD) の製造プロセスを向上させる、信頼性が高く、より環境に配慮したソリューションであることが実証されています。■概要
オゾン水処理へシフトして薬液の使用量を削減 業界では従来、シリコンの洗浄や半導体の洗浄用途に混合薬液が使用されてきました。しかし現在では、環境に配慮した、廃液やコストを抑えたオゾン機能水処理へと移行しています。 半導体、FPDプロセスでは、常温で安全性の高い洗浄液を使用した効率的な有機物の除去および表面処理が求められています。また、環境への負荷が高く、廃液処理に多くの費用がかかる従来の薬液の使用量を削減したいとも考えています。一例として、過酸化水素と高温熱硫酸の混合物を使用するSPMプロセスがあります。この混合物は、腐食性の有害な化学物質で、廃液処理コストを増加させます。 また、歩留向上のために、より高濃度、高清浄度なオゾン水を必要としています。高清浄度のオゾン水を使用することで、確実にシリコンウエハーおよびフラットパネルディスプレイ (FPD) 上の有機物汚染を除去することができます。-
シリーズ
オゾネーションモジュール 半導体および電子機器製造プロセス用ゴア®オゾネーションモジュール
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取扱企業
日本ゴア合同会社
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カテゴリ
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オゾネーションモジュール 半導体および電子機器製造プロセス用ゴア®オゾネーションモジュール 品番2件
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| まとめて問合せ・見積 | 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | フランジ面間距離：mm | ハウジング外径：mm | メンブレン材質 | ハウジング材質 | オゾン水濃度：ppm | 最高液圧：MPaG | 最高ガス圧：MPaG | 推奨使用温度 (℃) |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
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GN-142-300 |
要見積もり | 300 | 142 | 延伸多孔質PTFE | PTFE/PFA | 最高200 | ~0.40 | ~0.25 | 0~+30 | |
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GN-142-650 |
要見積もり | 650 | 142 | 延伸多孔質PTFE | PTFE/PFA | 最高200 | ~0.40 | ~0.25 | 0~+30 |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
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