MASK MVM-SEM® Sub-10nmノードフォトマスク対応 多次元観察・測長SEM E3650
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この製品について
■MAM Time 、測定精度大幅向上
前機種「E3640」と比べMAM Timeは1/2に、測定精度は30%向上しました。※MAM Time=Move Acquire Measure Time■ラージフィールド測定 (広視野測定)
高精度広視野SEM画像による多点同時測定を実現しました。さらに、高精度のSEM輪郭像抽出機能により、リソグラフィーシミュレーションを強力にサポートします。■CD測定の長期安定度の向上
ZステージによるFocus制御方式、およびオゾンによるIn situ Cleaning技術を採用し、無調整で長期間安定したCD測定を可能にしました。■DBM (Design Based Metrology) 対応
設計情報を基にしたルールベース・アプローチにより、多点測定レシピを自動生成し、ホットスポットや狭小パターンを高精度に測定できます。■3D観察
当社従来機種と同様、複数の検出器出力から3Dイメージを再構成する機能を備えています。-
シリーズ
MASK MVM-SEM® Sub-10nmノードフォトマスク対応 多次元観察・測長SEM E3650
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取扱企業
株式会社アドバンテスト
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MASK MVM-SEM® Sub-10nmノードフォトマスク対応 多次元観察・測長SEM E3650 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) |
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E3650 |
要見積もり |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
