液晶工場・半導体工場向けドライエッチング装置用 湿式除害装置 Panaceaシリーズ P-200V-HA-M2 株式会社東設
この製品について
■Panaceaでフッ素系ガス、後段のアルカリスクラバーで塩素系ガスを処理します。
ドライエッチング過程で発生した反応生成物及びフッ素系ガスをPanaceaで処理し、後段のアルカリスクラバーで塩素系ガスの処理を行います。 特長2■燃焼除害装置で発生する発がん性物質の生成を抑制しています。
フッ素系ガスと塩素系ガスを別々に処理することで、除害装置内での反応生成物の発生を抑制し、塩素ガスをアルカリ処理し除去することで燃焼除害装置で発生する発がん性物質の生成を抑制しています。 特長3■生産装置のダウンタイムの大幅な削減と燃焼除害装置のメンテナンスサイクルの向上を実現します。
生産装置のダウンタイムの大幅な削減、燃焼除害装置のメンテナンスサイクルの向上がPanaceaの導入により実現可能となり、ユーザーから高く評価されています。-
シリーズ
液晶工場・半導体工場向けドライエッチング装置用 湿式除害装置 Panaceaシリーズ P-200V-HA-M2
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取扱企業
株式会社東設
湿式集塵機注目ランキング
湿式集塵機の製品10点中、注目ランキング上位6点
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液晶工場・半導体工場向けドライエッチング装置用 湿式除害装置 Panaceaシリーズ P-200V-HA-M2 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 最大処理風量 | 粉体除去効率 | 副生成物 | Cl2除去効率 | PMサイクル | 燃焼除外装置パーツ 年間交換比率 (USD) | 年間工業液消耗量 in G8 LCD (USD) |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
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P-200V-HA-M2 |
要見積もり | 200L/min | 3μm:100%、2μm:98.5%、0.25μm:93% | COCl2 <1ppb、有機塩素化合物 <1ppb | 99.70% | 4~6months | 0 (SUS Burnerのみ) | 5K |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
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