ＨＰＣ－２０ (株式会社真空デバイス) のカタログ情報
ＨＰＣ－２０
製品個別カタログ
カタログ紹介
★ ホローカソード試料台による低電圧放電CVD法（特許）を採用、試料にやさしく金属オスミウムをコーティングします。
★ ホローカソード円筒内全体にオスミウムプラズマイオンが発生しますので試料の大きさ、高さの影響を受けません。
★ プラズマ放電に最適な真空度に達してから、コーティング中のみオスミウムガスを注入するので結晶オスミウムの消費を節約できます。（1ｇ使用時100回程度）
★ コーティング操作はフルオートです。SEMのスタブに取り付けた試料をホローカソード内に置き、スタートスイッチを押すだけです。
★ 危険な未反応オスミウムガスは排出オスミウムトラップ（活性炭）で取り除き大気汚染は在りません。
★ 膜厚コントロールは時間・温度・電流により微調整を可能にしています。
★ ホローカソード円筒内全体にオスミウムプラズマイオンが発生しますので試料の大きさ、高さの影響を受けません。
★ プラズマ放電に最適な真空度に達してから、コーティング中のみオスミウムガスを注入するので結晶オスミウムの消費を節約できます。（1ｇ使用時100回程度）
★ コーティング操作はフルオートです。SEMのスタブに取り付けた試料をホローカソード内に置き、スタートスイッチを押すだけです。
★ 危険な未反応オスミウムガスは排出オスミウムトラップ（活性炭）で取り除き大気汚染は在りません。
★ 膜厚コントロールは時間・温度・電流により微調整を可能にしています。
カタログについて
- カタログ名
- ＨＰＣ－２０
- 取り扱い企業
- 株式会社真空デバイス
- 会社区分
- メーカー
- カタログタイプ
- 製品個別カタログ
