MASK MVM-SEM® E3650 (株式会社アドバンテスト) のカタログ情報
MASK MVM-SEM® E3650
製品個別カタログ
カタログ紹介
Sub-10nmノードフォトマスク対応 多次元観察・測長SEM E3650
「E3650」は、独自の電子ビーム走査技術を用いて、フォトマスクの微細パターン寸法をより高い精度と安定性で計測します。フォトマスク用SEM市場で広く支持されている当社「E3600シリーズ」の最新機種として、測定スループットを前機種「E3640」より2倍に向上。多重露光によるマスク枚数の増加、およびパターニングの複雑化による測定点数の増加に対応可能な、高スループットを実現しました。
最先端フォトマスクに加え、EUVマスクやナノインプリント用マスターテンプレートの測定にも優れた性能を発揮します。
E3650の特長
■MAM Time 、測定精度大幅向上
前機種「E3640」と比べMAM Timeは1/2に、測定精度は30%向上しました。※MAM Time=Move Acquire Measure Time
■ラージフィールド測定 (広視野測定)
高精度広視野SEM画像による多点同時測定を実現しました。さらに、高精度のSEM輪郭像抽出機能により、リソグラフィーシミュレーションを強力にサポートします。
■CD測定の長期安定度の向上
ZステージによるFocus制御方式、およびオゾンによるIn situ Cleaning技術を採用し、無調整で長期間安定したCD測定を可能にしました。
■DBM (Design Based Metrology) 対応
設計情報を基にしたルールベース・アプローチにより、多点測定レシピを自動生成し、ホットスポットや狭小パターンを高精度に測定できます。
■3D観察
当社従来機種と同様、複数の検出器出力から3Dイメージを再構成する機能を備えています。
「E3650」は、独自の電子ビーム走査技術を用いて、フォトマスクの微細パターン寸法をより高い精度と安定性で計測します。フォトマスク用SEM市場で広く支持されている当社「E3600シリーズ」の最新機種として、測定スループットを前機種「E3640」より2倍に向上。多重露光によるマスク枚数の増加、およびパターニングの複雑化による測定点数の増加に対応可能な、高スループットを実現しました。
最先端フォトマスクに加え、EUVマスクやナノインプリント用マスターテンプレートの測定にも優れた性能を発揮します。
E3650の特長
■MAM Time 、測定精度大幅向上
前機種「E3640」と比べMAM Timeは1/2に、測定精度は30%向上しました。※MAM Time=Move Acquire Measure Time
■ラージフィールド測定 (広視野測定)
高精度広視野SEM画像による多点同時測定を実現しました。さらに、高精度のSEM輪郭像抽出機能により、リソグラフィーシミュレーションを強力にサポートします。
■CD測定の長期安定度の向上
ZステージによるFocus制御方式、およびオゾンによるIn situ Cleaning技術を採用し、無調整で長期間安定したCD測定を可能にしました。
■DBM (Design Based Metrology) 対応
設計情報を基にしたルールベース・アプローチにより、多点測定レシピを自動生成し、ホットスポットや狭小パターンを高精度に測定できます。
■3D観察
当社従来機種と同様、複数の検出器出力から3Dイメージを再構成する機能を備えています。
カタログについて
- カタログ名
- MASK MVM-SEM® E3650
- 取り扱い企業
- 株式会社アドバンテスト
- 会社区分
- メーカー 商社・代理店
- カタログタイプ
- 製品個別カタログ
