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マルチPVD成膜装 <DASHシリーズ>-DASH-500
マルチPVD成膜装 <DASHシリーズ>-ナノテック株式会社

マルチPVD成膜装 <DASHシリーズ>
ナノテック株式会社

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この製品について

低摩擦係数で高硬度を持つダイヤモンド・ライク・カーボン (DLC) 膜の生成をベースに各種蒸発源を併用することによりDLC膜の密着力の向上、厚膜化、複合膜化などの研究開発を目的に開発された装置です。また、アーク源やHCDガンを単独で使用すればチタンやクロム系の薄膜 / 合金膜のコーティングも、さらにスパッタリングやEBガンを使用すれば酸化膜のコーティングも可能となります。

  • シリーズ

    マルチPVD成膜装 <DASHシリーズ>

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マルチPVD成膜装 <DASHシリーズ> 品番3件

フィルター
商品画像 品番 価格 (税抜) 基板ホルダー 搭載放電システム 到達圧力 排気速度 基板加熱機構 基板バイアス 装置制御 排気系 冷却水 圧縮空気
マルチPVD成膜装 <DASHシリーズ>-品番-DASH-500

DASH-500

要見積もり

500W×500W×600H

φ200×200L

自公転式(製品形状に応じて特注製作可能)

・DLCイオン源(イオン化蒸着源)、HCDガン、スパッタリング・アーク、EBガン、イオン注入源

6.7E-4Pa以下

6.7E-3Pa以下まで30分以内

オプション(シースヒーター、ランプヒーター等)

MAX3,000V500mA

レシピ画面設定による完全自動運転※一部複合型は除く

ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ

3φ200V15kVA~

2.5W×3.0D×2.5H

3kgf/cm220L~40L/min

6kgf/cm2以上

マルチPVD成膜装 <DASHシリーズ>-品番-DASH-800

DASH-800

要見積もり

φ800×650H

φ500×200L

自公転式(製品形状に応じて特注製作可能)

・DLCイオン源(イオン化蒸着源)、HCDガン、スパッタリング・アーク、EBガン、イオン注入源

6.7E-4Pa以下

6.7E-3Pa以下まで30分以内

オプション(シースヒーター、ランプヒーター等)

MAX3,000V500mA

レシピ画面設定による完全自動運転※一部複合型は除く

ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ

3φ200V25kVA~

3.0W×4.0D×2.5H

3kgf/cm220L~40L/min

6kgf/cm2以上

マルチPVD成膜装 <DASHシリーズ>-品番-DASH-1000

DASH-1000

要見積もり

φ1000×900H

φ600×500L

自公転式(製品形状に応じて特注製作可能)

・DLCイオン源(イオン化蒸着源)、HCDガン、スパッタリング・アーク、EBガン、イオン注入源

6.7E-4Pa以下

6.7E-3Pa以下まで30分以内

オプション(シースヒーター、ランプヒーター等)

MAX3,000V500mA

レシピ画面設定による完全自動運転※一部複合型は除く

ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ

3φ200V30kVA~

4.0W×4.0D×2.5H

3kgf/cm220L~40L/min

6kgf/cm2以上

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この商品の取り扱い会社情報

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会社概要

ナノテック株式会社は、真空を利用した金属及びセラミック表面改質装置の製造販売などを行う企業です。 真空利用だけではなく、プラズマ利用による金属加工装置の販売を行っています。また、材料の特性を評価する試験装置の輸入や...

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  • 本社所在地: 千葉県
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