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Park NX-Mask は、デバイスの微細化、フォトマスクの複雑化に対応した新世代のフォトマスクリペアシステムです。Park NX-Maskは、最先端の原子間力顕微鏡技術を取り入れたハイエンドEUVマスクのリペアに対応する革新的なツールです。Park NX-Maskは、自動欠陥検査から欠陥のリペア、リペアの検証までと、オールインワンソリューションを提供し、これまでにないリペア効果で高スループットを実現します。

■安全性の高い優れた方法で欠陥をリペア

EUV光源からの光が反射する過程で、錫 (Sn) などの粒子がマスクに到達し、光の反射率を低下させることがありますが、Park NX-Maskは、実績のあるナノメカニカルAFM技術を活用し、最も安全な方法でパーティクルや複雑なパターンの欠陥を発見および除去することができます。従来のフォトマスクリペアシステムとは異なり、マスク表面にダメージを与えたり、汚したりすることなくリペアを実行します。

■安全性

・電子ビームのチャージなし ・化学物質の不使用 ・真空不要

■特長

・ナノメートル分解能と精度の高い修復 ・一つのシステムでサーベイスキャンから修復、検証まで完了 ・リーズナブルな価格設定

■欠陥の特定とリペア後の検証を可能にする非接触型AFM技術

Park NX-Maskは、最も安全なスキャン方法である独自の非接触AFM技術を使い、欠陥の位置を特定するサーベイスキャンを行います。サーベイスキャンにより、欠陥の大きさと正確な位置、および各パーティクルや欠陥に関する情報を取得します。リペアした後、Park NX-Maskは非接触型AFM技術でリペア後の検証を行い、ナノスケールの3Dトポグラフィーや表面粗さなどその他の測定データを出力します。

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    AFMによるEUVマスクリペア Park NX-Mask

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