自動グラジェント展開槽 AMD2
英弘精機株式会社

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この製品について

自動グラジェント展開槽AMD2は、グラジエント展開に特化して設計された展開槽で、複雑な成分分離の課題を効率的に解決します。複雑なサンプルの分離は、特に成分の極性範囲が広い場合、どのクロマトグラフィーシステムにとっても難しい課題です。

AMD (AutomatedMultipleDevelopment) 法は、展開距離を段階的に延ばすステップワイズグラジエント展開を行うことで、この課題に対して優れた解決策を提供します。これにより、酸・塩基・中性物質・親水性物質・疎水性物質を、単一のAMDで同時に分離できます。

AMDは、脂質分析や飲料水のルーチン分析で広く利用されています。さらに、複雑な組成を持つ顔料、樹脂、鉱油製品の添加剤などの分析にも活用されています。

■特徴・自動化されたグラジエント展開槽
・展開距離を段階的に延ばすステップワイズグラジエント展開
・分離能の向上
・HPTLCガラスプレート (20×10cm) のみ対応

■AMDの原理・HPTLCプレートは、同じ方向に繰り返し展開します。
・展開を繰り返すごとに、溶媒が移動する距離を少しずつ長くします。
・各展開の後は、展開槽から溶媒を完全に取り除き、プレートを真空下で乾燥させます。
・次の展開では、前回よりも溶出力の低い溶媒を使います。こうして段階的な溶出グラジエントを作ります。
・「フォーカシング効果」と「グラジエント展開」を組み合わせることで、バンド幅が非常に狭くなります。ピーク幅はおよそ1mmで、80mmの分離距離で最大40成分を完全に (ベースラインまで) 分離できます。

型番
この商品には1種類の型番があります

シリーズ
自動グラジェント展開槽 AMD2

取扱企業
英弘精機株式会社

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自動グラジェント展開槽 AMD2 品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	プレートの種類	ガス供給	ガス消費量	環境温度	溶媒フロント検出	展開ステップ数	電源	寸法	重さ
	AMD2	要見積もり	TLC/HPTLCガラスプレート20×10cm	窒素ガスもしくは圧縮空気 (4.5-6bar/60-90psi)	約1L/gradient step	15~30℃	CCD、精度±1mm以上	最大99	100V~240V、50/60Hz	430×500×360mm	31kg