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薄膜形成装置 プラズマCVD装置-ロードロック式 プラズマCVD装置
薄膜形成装置 プラズマCVD装置-神港精機株式会社

薄膜形成装置 プラズマCVD装置
神港精機株式会社



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この製品について

600mm 基板に対応した大型プラズマCVD装置です。 緻密なシリコン酸化膜の形成が可能で薄膜キャパシタの作製に適しています。

  • シリーズ

    薄膜形成装置 プラズマCVD装置

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薄膜形成装置 プラズマCVD装置 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 対象 処理可能範囲 処理時間 膜厚分布 膜厚 使用ガス 主排気真空ポンプ 放電用RF電源 基板加熱ヒータ 操作
薄膜形成装置 プラズマCVD装置-品番-ロードロック式 プラズマCVD装置

ロードロック式 プラズマCVD装置

要見積もり 生産用 600 × 600 (mm) 約4.5時間 / バッチ (SiO2 15μ成膜時) 560x560 (mm)面内士7%以下 15μm (SiO2) Ar、N2O、SiH4 (Ar希釈) :窒素 (ベント用、パージ用) 油拡散ポンプ (オプション:ターボ分子ポンプ) 13.56MHz (1.5kW) 加熱温度360°C±10°C (最大380°C) タッチパネルによる全自動

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

神港精機株式会社は1949年に設立した、真空ポンプ・真空装置を中心にアセンブリ装置・光学検査装置を製造するメーカーです。 技術開発型の企業として、「真空技術」を応用した製造装置及びコンポーネントを主軸とした「モノづくり...

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  • 本社所在地: 兵庫県
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