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プラズマCVD装置の製品24点中、注目ランキング上位6点
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| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 対象 | 処理可能範囲 | 処理時間 | 膜厚分布 | 膜厚 | 使用ガス | 主排気真空ポンプ | 放電用RF電源 | 基板加熱ヒータ | 操作 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
ロードロック式 プラズマCVD装置 |
要見積もり |
生産用 |
600 × 600 (mm) |
約4.5時間 / バッチ (SiO2 15μ成膜時) |
560x560 (mm)面内士7%以下 |
15μm (SiO2) |
Ar、N2O、SiH4 (Ar希釈) ：窒素 (ベント用、パージ用) |
油拡散ポンプ (オプション：ターボ分子ポンプ) |
13.56MHz (1.5kW) |
加熱温度360°C±10°C (最大380°C) |
タッチパネルによる全自動 |
