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液体原料供給MOCVD装置 研究用 MPC2100H-MPC2100H
液体原料供給MOCVD装置 研究用 MPC2100H-株式会社エピクエスト

液体原料供給MOCVD装置 研究用 MPC2100H
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    液体原料供給MOCVD装置 研究用 MPC2100H

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液体原料供給MOCVD装置 研究用 MPC2100H 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) リアクタ 基板サイズ 基板加熱 最高加熱温度 流量制御 気化方式 適用 投入室
液体原料供給MOCVD装置 研究用 MPC2100H-品番-MPC2100H

MPC2100H

要見積もり

縦型ステンレス製

Φ2インチ×1枚

抵抗加熱方式

800℃ (制御用熱電対値)

液体マスフローコントローラ

熱式気化器

酸化物など

トランスファーロッド付

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成膜装置をフィルターから探すことができます

到達圧力 Pa

0 - 0.01 0.01 - 1 1 - 10

基板サイズ mm

25 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 650

設置面積 m²

1 - 5 5 - 10 10 - 20 20 - 100

所要電力 kVA

10 - 15 15 - 20 20 - 25 25 - 30 30 - 35

真空槽 mm

500 - 800 800 - 1,000

基板バイアス V

0 - 5,000 5,000 - 25,000

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この商品の取り扱い会社情報

株式会社エピクエスト

会社概要

株式会社エピクエストは2000年に設立し、主にMBE装置、MOCVD装置の開発、製造を行っている会社です。 MBEやMOCVD装置は、天然にない人工結晶を作製する技術であるエピキタシー技術を基盤としており、結晶を成...

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  • 本社所在地: 京都府

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