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nano Benchtop series コンパクト薄膜実験装置 nanoシリーズ取扱企業
テルモセラ・ジャパン株式会社カテゴリ
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蒸着装置の製品92点中、注目ランキング上位6点
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| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 到達真空度 | 基板サイズ | カソード | ガス系統 | APC制御 | 成膜運転 | 真空ポンプ | 真空計 | 膜厚センサ | 基板回転 | 上下昇降 | シャッター | オプション |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
nanoPVD-S10A |
要見積もり |
<5x10-7mbar |
最大4inch |
Φ2inch x 最大3 |
3系統 (標準) Ar, O2, N2 |
PIDループ自動圧力制御 (又は、手動) |
自動連続多層膜、同時成膜 (2源同時成膜) |
ターボ分子 , ロータリー (又はスクロール) |
ワイドレンジゲージ |
水晶振動子膜厚センサー |
モーター駆動 30段階速度可変式 |
手動式 |
基板シャッター |
・磁性材料用カソード , 基板ヒーター, 他 |
蒸着装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜排気時間 分
10 - 15 15 - 20 20 - 25排気系主ポンプ
クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ操作方法
全自動 手動 自動基板サイズ mm
50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000チャンバーサイズ mm
150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400蒸発方式
抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱基板加熱温度 ℃
100 - 500 500 - 800 800 - 1,000膜厚分布 %
1 - 5 5 - 15
