超高真空排気装置 UHVPS
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この製品について

■概要超高真空排気装置の製造には、材料選定、溶接、洗浄、表面研磨及び表面処理からハンドリングに至るまで、多くの技術が必要です。 当社は分子線セルやMBE装置などで培った、超高真空装置製造技術を活かし、各種超高真空排気装置の製作を承っております。既に当社装置をご利用頂いているお客様からは短時間での超高真空への到達などご好評を頂いております。

本装置はメインチャンバーに試料交換用のハッチを搭載しており、各種プラズマ源、加熱機構、蒸着源、ガス供給系など各種のコンポーネントを組み合わせて、多様な実験にご使用頂けます。

■特徴・クリーンな真空をベースに、成膜やエッチングなど多くの実験に使用できます。
・コンパクトチャンバー＋シンプルな構成により、容易にメンテナンスが可能です。
・最小限の構成、完全手動タイプにより低コストで導入できます。
・各種オプションの搭載によりカスタマイズが可能です。

■オプション・基板加熱機構
・基板上下機構
・ロードロック機構
・各種プラズマ源
・加熱機構
・蒸着源
・ガス供給系各種

型番
この商品には1種類の型番があります

シリーズ
超高真空排気装置 UHVPS

取扱企業
アリオス株式会社

カテゴリ

ジェネレータ・発生器

真空発生器

浄化設備・装置

排気装置

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超高真空排気装置 UHVPS 品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	チャンバー	ロードロックハッチ	ターボ分子ポンプ排気速度	ターボ分子ポンプ制御電源	ロータリーポンプ排気速度	ロータリーポンプ電動機出力	チャンバー到達圧力	リーク量	真空計	本体架台	用力電源	用力圧縮空気	寸法	重量
	UHVPS	要見積もり	SUS304製 (内面鏡面仕上げ、電解研磨処理)	SUS304製 Oリング式	260~355 L/sec (N2 、保護金網付き) ファイファー社TM 製　又は 220~350 L/sec (N2 、保護金網付き) 大阪真空機器製作所TM 製	デジタルコントロールによる監視、保護機能搭載	250 L/min	0.45 kW	1×10^-4 Pa以下 (チャンバー内の負荷がない状態)	6.7×10^-11 Pa・m^3/sec以下	コンパクトフルレンジ CCゲージ	キャスター、アジャスター付	単相 200V/15A (最大)	圧力 0.4~0.6 MPａ (接続径 Rc 1/4)	500mm×600mm H1100mm	本体約60kg