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真空乾燥装置・真空ベーキング装置 研究開発用成膜装置 キット-キット
真空乾燥装置・真空ベーキング装置 研究開発用成膜装置 キット-入江株式会社

真空乾燥装置・真空ベーキング装置 研究開発用成膜装置 キット
入江株式会社

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この製品について

スパッタリング、蒸着装置、プラズマ処理装置 (表面改質、有機物除去等) を低コストでお探しの方に最適です。研究開発用として必要な分だけ買い足せる成膜装置「キット」です。

  • シリーズ

    真空乾燥装置・真空ベーキング装置 研究開発用成膜装置 キット

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真空乾燥装置・真空ベーキング装置 研究開発用成膜装置 キット 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 超親水性 酸化防止 MEMS 微細磁気記録 レアメタルの使用量削減 電磁波シールド サーマルヘッドの発熱体 透明導電膜 照明器具の反射板 各種光学フィルター 反射防止膜 装飾品 静電破壊防止、電磁波透過 可視光反射及び赤外光透過 水素センサー
真空乾燥装置・真空ベーキング装置 研究開発用成膜装置 キット-品番-キット

キット

要見積もり

酸化チタンの光触媒膜

半導体の接点部分に金を成膜

微細構造を成膜とエッチングにより作成

磁気ヘッドの高透磁率磁性膜で極薄のヨークを形成

触媒用白金を表面だけに成膜

薄膜にすることで軽量化、小型化を実現

微細な発熱部を薄膜で作成

フラットパネルディスプレー等

LEDのケース

CCD用赤外線カットや、プロジェクター光源の分光フィルター

メガネやカメラのレンズコーティング

化粧品容器、家電製品等のプラスチックに金属を真空メッキ

携帯電話、家電製品の筐体装飾
(不連続膜;金属色であるが電気は流れない)

ハロゲンランプのコールドミラー

水素吸収による光透過率の変化により検出

フィルターから探す

成膜装置をフィルターから探すことができます

到達圧力 Pa

0 - 0.01 0.01 - 1 1 - 10

基板サイズ mm

25 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 650

設置面積 m²

1 - 5 5 - 10 10 - 20 20 - 100

所要電力 kVA

10 - 15 15 - 20 20 - 25 25 - 30 30 - 35

真空槽 mm

500 - 800 800 - 1,000

基板バイアス V

0 - 5,000 5,000 - 25,000

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この商品の取り扱い会社情報

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企業レビュー

4.8

会社概要

入江株式会社は、東京都中央区に本社を置く、製造機械、製造消耗品、測定・検査機器などを販売する、科学技術専門の商社である。 基礎研究分野、大学、半導体エネルギー・液晶産業、二次電池・太陽電池などの新エネルギー、医療・医薬品...

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  • 本社所在地: 東京都
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