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スパッタ装置 8インチターゲット貴金属コーター MSP-8in-MSP-8in
スパッタ装置 8インチターゲット貴金属コーター MSP-8in-株式会社真空デバイス

スパッタ装置 8インチターゲット貴金属コーター MSP-8in
株式会社真空デバイス

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この製品について

ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出させる原理を応用したのがマグネトロンスパッタ装置です。 電子顕微鏡用途では主に金、白金といった貴金属が使われます。また、そのほかの金属ターゲットをスパッタできる上位機種もラインナップしております。

  • シリーズ

    スパッタ装置 8インチターゲット貴金属コーター MSP-8in

企業レビュー 5.0

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2025年6月3日にレビュー済み

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スパッタ装置 8インチターゲット貴金属コーター MSP-8in 品番1件

次の条件に該当する商品を1件表示しています

商品画像 品番 価格 (税抜) ターゲット ターゲット金属 印加電圧/電流 試料ステージ ターゲット-試料間隔 試料サイズ チャンバーサイズ タイマー 排気系 到達真空度 雰囲気ガス導入 安全対策 装置サイズ 電源
スパッタ装置 8インチターゲット貴金属コーター MSP-8in-品番-MSP-8in

MSP-8in

要見積もり

φ200 m mマグネトロン方式

標準:Pt、オプション:Au・Au-Pd・Pt-Pd

電圧DC0~510V/電流DC0~500mA

φ200mmアース電位

35mm

直径≦φ210mm、高さ:≦20 m m

内径230mmx深さ60mm

OMRON社製電子タイマー

外置きRP100ℓ/min23kg

1(Pa)以下

1/4’導入パイプ、0.05MPa以下使用

系統別フューズ、上蓋転倒防止ストッパー

本体W450mm×H372mm×D400mm、42kg

AC100V,15Aアース線付3芯プラグ使用3m

フィルターに該当する他製品

スパッタリング装置の中で同じ条件の製品
対象搬送方式: 静止基板型

フィルターから探す

スパッタリング装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産

スパッタ方式

DCスパッタ型 RFスパッタ型 マグネトロンスパッタ型 グロー放電スパッタ型

成膜環境

高真空型 中真空型

ターゲット構成

単一ターゲット型 多元ターゲット型 ロータリターゲット型

対象搬送方式

静止基板型 回転基板型 スルーフィード型

処理基板 mm

20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700

スパッタ方向

アップ ダウン

装置構成

エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室

基板加熱 ℃

100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800

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この商品の取り扱い会社情報

返答率

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返答時間

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企業レビュー

5.0

会社概要

株式会社真空デバイスは、真空技術を使った電子顕微鏡周辺機器と実験用途向けの真空装置を開発している企業です。 主な製品は、マグネトロンスパッタ装置やプラズマCVD装置、蒸着装置プラズマ処理装置・凍結乾燥装置などを展開して...

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  • 本社所在地: 茨城県
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