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真空チャンバ
□ 1,000mm × H1,165mm
基板ドーム
φ 870mm
基板ドーム回転速度
10 ~ 30rpm
水晶式膜厚計
6点ロータリーセンサ
蒸発源
反応プラズマ源
到達圧力
1.0E^-4 Pa以下
排気時間
20 分以下 ( 大気圧~ 1.3 × 10^-3 Pa まで)
型番
RPD-1000 (ITO/AlN)取扱企業
株式会社オプトランカテゴリ
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蒸着装置の製品135点中、注目ランキング上位6点
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| 商品画像 | 価格 (税抜) | 真空チャンバ | 基板ドーム | 基板ドーム回転速度 | 水晶式膜厚計 | 蒸発源 | 到達圧力 | 排気時間 |
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要見積もり | □ 1,000mm × H1,165mm | φ 870mm | 10 ~ 30rpm | 6点ロータリーセンサ | 反応プラズマ源 | 1.0E^-4 Pa以下 | 20 分以下 ( 大気圧~ 1.3 × 10^-3 Pa まで) |
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成膜環境が真空蒸着型の製品
蒸着装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜蒸着方式
抵抗加熱蒸着型 電子ビーム蒸着型成膜環境
真空蒸着型 高真空蒸着型 イナートガス雰囲気型蒸着材料供給方式
単発源型 多元源型特徴機能
自動制御型 高速成膜型 高精度厚さ制御型 クリーン対応型排気時間 分
10 - 15 15 - 20 20 - 25排気系主ポンプ
クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ操作方法
全自動 手動 自動基板サイズ mm
50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000チャンバーサイズ mm
150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400蒸発方式
抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱基板加熱温度 ℃
100 - 500 500 - 800 800 - 1,000膜厚分布 %
1 - 5 5 - 15
