制御・計測・センシング
駆動・機械要素・電子制御部品
産業別カテゴリ
電源・エネルギー・熱処理機器
安全・保護・環境対策
材料・素材・ケミカル
電気・電子部品
構造部品・締結要素
ソフトウェア・ネットワーク
サービス
その他
全てのカテゴリ
閲覧履歴
真空チャンバ
φ2,750mm × H1,880mm
基板ドーム
φ 2,640mm, 4分割式
基板ドーム回転速度
20rpm
水晶式膜厚計
6点式水晶モニタ
蒸発源
電子銃1基、可動式AS源
イオンソース
RFイオンソース
到達圧力
7.0 × 10^-5Pa以下
排気時間
15分以下 (大気から 1.3 × 10^-3Pa まで)
型番
Gener-2750取扱企業
株式会社オプトランカテゴリ
もっと見る
蒸着装置の製品135点中、注目ランキング上位6点
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
一括見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%
96%以上の方が返答を受け取っています
返答時間が24時間以内の企業の中での注目ランキング
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
一括見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%
96%以上の方が返答を受け取っています
| 商品画像 | 価格 (税抜) | 真空チャンバ | 基板ドーム | 基板ドーム回転速度 | 水晶式膜厚計 | 蒸発源 | イオンソース | 到達圧力 | 排気時間 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
要見積もり | φ2,750mm × H1,880mm | φ 2,640mm, 4分割式 | 20rpm | 6点式水晶モニタ | 電子銃1基、可動式AS源 | RFイオンソース | 7.0 × 10^-5Pa以下 | 15分以下 (大気から 1.3 × 10^-3Pa まで) |
蒸着装置の中でこの商品と同じ値をもつ製品
蒸着方式が電子ビーム蒸着型の製品
蒸着装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜蒸着方式
抵抗加熱蒸着型 電子ビーム蒸着型成膜環境
真空蒸着型 高真空蒸着型 イナートガス雰囲気型蒸着材料供給方式
単発源型 多元源型特徴機能
自動制御型 高速成膜型 高精度厚さ制御型 クリーン対応型排気時間 分
10 - 15 15 - 20 20 - 25排気系主ポンプ
クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ操作方法
全自動 手動 自動基板サイズ mm
50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000チャンバーサイズ mm
150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400蒸発方式
抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱基板加熱温度 ℃
100 - 500 500 - 800 800 - 1,000膜厚分布 %
1 - 5 5 - 15
