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コーティング装置 小型DLC成膜実験装置 330シリーズ ICF-330-ナノテック株式会社

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真空槽 (mm)

330W × 330D × 410H

有効エリア (mm)

φ150 × 150L (スパッタリング搭載時は※110L)

基板ホルダー

自公転式 (製品形状に応じて特注製作可能)

搭載可能システム

PSII電源 (標準) 、DLCイオン源 (イオン化蒸着源) 、スパッタリング電源、DLC剥離用電源

到達圧力

6.7E-4Pa以下

排気速度

6.7E-3Pa以下まで30分以内

基板加熱機構

オプション (シースヒーター)

基板バイアス

MAX 5kV 250mA 0.2 ~ 2kHz DUTY5 ~ 50%

装置制御

レシピ画面設定による完全自動運転

排気系

ターボ分子ポンプ + ロータリーポンプ

所要電力

3φ 200V 10kVA~

設置面積 (M)

2.5W × 2.5D × 2.0H

冷却水

2kgf/cm2 20L/min

圧縮空気

5kgf/cm2以上

この製品について

弊社のDLC成膜技術をベースに、あらゆる研究開発を目的とする御客様からの要求にお応え出来るように開発された、DLC成膜実験機の最新モデル。コンパクト設計ではありながら、PSII電源標準装備や高周波スパッタ源等を追加可能で、大型生産機と同様の複合成膜も一台で実験が可能。

  • 型番

    ICF-330

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コーティング装置 小型DLC成膜実験装置 330シリーズ ICF-330 ICF-330の性能表

商品画像 価格 (税抜) 真空槽 (mm) 有効エリア (mm) 基板ホルダー 搭載可能システム 到達圧力 排気速度 基板加熱機構 基板バイアス 装置制御 排気系 所要電力 設置面積 (M) 冷却水 圧縮空気
コーティング装置 小型DLC成膜実験装置 330シリーズ ICF-330-品番-ICF-330 要見積もり 330W × 330D × 410H φ150 × 150L (スパッタリング搭載時は※110L) 自公転式 (製品形状に応じて特注製作可能) PSII電源 (標準) 、DLCイオン源 (イオン化蒸着源) 、スパッタリング電源、DLC剥離用電源 6.7E-4Pa以下 6.7E-3Pa以下まで30分以内 オプション (シースヒーター) MAX 5kV 250mA 0.2 ~ 2kHz DUTY5 ~ 50% レシピ画面設定による完全自動運転 ターボ分子ポンプ + ロータリーポンプ 3φ 200V 10kVA~ 2.5W × 2.5D × 2.0H 2kgf/cm2 20L/min 5kgf/cm2以上

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この商品の取り扱い会社情報

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会社概要

ナノテック株式会社は、真空を利用した金属及びセラミック表面改質装置の製造販売などを行う企業です。 真空利用だけではなく、プラズマ利用による金属加工装置の販売を行っています。また、材料の特性を評価する試験装置の輸入や...

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  • 本社所在地: 千葉県

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