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真空槽 (mm)
330W × 330D × 410H
有効エリア (mm)
φ150 × 150L (スパッタリング搭載時は※110L)
基板ホルダー
自公転式 (製品形状に応じて特注製作可能)
搭載可能システム
PSII電源 (標準) 、DLCイオン源 (イオン化蒸着源) 、スパッタリング電源、DLC剥離用電源
到達圧力
6.7E-4Pa以下
排気速度
6.7E-3Pa以下まで30分以内
基板加熱機構
オプション (シースヒーター)
基板バイアス
MAX 5kV 250mA 0.2 ~ 2kHz DUTY5 ~ 50%
装置制御
レシピ画面設定による完全自動運転
排気系
ターボ分子ポンプ + ロータリーポンプ
所要電力
3φ 200V 10kVA~
設置面積 (M)
2.5W × 2.5D × 2.0H
冷却水
2kgf/cm2 20L/min
圧縮空気
5kgf/cm2以上
型番
ICF-330取扱企業
ナノテック株式会社カテゴリ
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商品画像 | 価格 (税抜) | 真空槽 (mm) | 有効エリア (mm) | 基板ホルダー | 搭載可能システム | 到達圧力 | 排気速度 | 基板加熱機構 | 基板バイアス | 装置制御 | 排気系 | 所要電力 | 設置面積 (M) | 冷却水 | 圧縮空気 |
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要見積もり | 330W × 330D × 410H | φ150 × 150L (スパッタリング搭載時は※110L) | 自公転式 (製品形状に応じて特注製作可能) | PSII電源 (標準) 、DLCイオン源 (イオン化蒸着源) 、スパッタリング電源、DLC剥離用電源 | 6.7E-4Pa以下 | 6.7E-3Pa以下まで30分以内 | オプション (シースヒーター) | MAX 5kV 250mA 0.2 ~ 2kHz DUTY5 ~ 50% | レシピ画面設定による完全自動運転 | ターボ分子ポンプ + ロータリーポンプ | 3φ 200V 10kVA~ | 2.5W × 2.5D × 2.0H | 2kgf/cm2 20L/min | 5kgf/cm2以上 |
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