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AuSn蒸着装置 SEC-S900C-株式会社昭和真空

全型番で同じ値の指標

排気ポンプ

RP+MBP+CP

設置寸法

W1,520mm×D1,240mm×H2,790mm

重量

約3,000kg

電源容量

AC200~220V (φ3) /約67kVA (193A)

到達圧力

5.0×10-5Pa以下

排気速度

5.0×10-4Pa迄20分以内

蒸発源

電子銃270° 偏向×2,電源10kW×1

膜厚分布

バッチ内±3%以内

排気系

RP/MBP/CRYO

真空槽

Φ900mm×H1,290mm SUS304製

フットプリント

W1,520mm×D1,240mm×H2,790mm

この製品について

■Au/Snの2元同時蒸着が可能な蒸着装置

2元同時蒸着によりAu/Snの組成比管理及び膜厚管理が可能です。また、基板冷却機構及び間欠成膜機能により低温成膜が可能です。

■用途・応用例

LDサブマウントのAu/Snはんだ層形成。LED薄膜サブマウントのAu/Snはんだ層形成。

■特長

・低温成膜 (基板冷却機構及び間欠成膜機能付属) ・2元同時蒸着 ・イオンソース (オプション)

  • 型番

    SEC-S900C

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AuSn蒸着装置 SEC-S900C SEC-S900Cの性能表

商品画像 価格 (税抜) 排気ポンプ 設置寸法 重量 電源容量 到達圧力 排気速度 蒸発源 膜厚分布 排気系 真空槽 フットプリント
AuSn蒸着装置 SEC-S900C-品番-SEC-S900C 要見積もり RP+MBP+CP W1,520mm×D1,240mm×H2,790mm 約3,000kg AC200~220V (φ3) /約67kVA (193A) 5.0×10-5Pa以下 5.0×10-4Pa迄20分以内 電子銃270° 偏向×2,電源10kW×1 バッチ内±3%以内 RP/MBP/CRYO Φ900mm×H1,290mm SUS304製 W1,520mm×D1,240mm×H2,790mm

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使用用途

#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜

蒸着方式

抵抗加熱蒸着型 電子ビーム蒸着型

成膜環境

真空蒸着型 高真空蒸着型 イナートガス雰囲気型

蒸着材料供給方式

単発源型 多元源型

特徴機能

自動制御型 高速成膜型 高精度厚さ制御型 クリーン対応型

排気時間 分

10 - 15 15 - 20 20 - 25

排気系主ポンプ

クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ

操作方法

全自動 手動 自動

基板サイズ mm

50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000

チャンバーサイズ mm

150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400

蒸発方式

抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱

基板加熱温度 ℃

100 - 500 500 - 800 800 - 1,000

膜厚分布 %

1 - 5 5 - 15

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

株式会社昭和真空は、1958年に設立された、真空関連装置メーカーです。 2000年にはJASDAQ上場(現在は東証スタンダード市場)を果たします。 真空技術を中心とした、装置製造を軸としており、全て受注生産であることが...

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  • 本社所在地: 神奈川県

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