制御・計測・センシング
駆動・機械要素・電子制御部品
産業別カテゴリ
電源・エネルギー・熱処理機器
安全・保護・環境対策
材料・素材・ケミカル
電気・電子部品
構造部品・締結要素
ソフトウェア・ネットワーク
サービス
その他
全てのカテゴリ
閲覧履歴
基板サイズ
最大φ12インチ
成膜プロセス
SiH4系：SiO2、SiNx、SiON、a-Si TEOS/TMOS系：SiO2
プラズマソース
CCP型
基板加熱温度
最高300℃ (基板表面)
真空排気
低真空プロセス：MBP+DP 高真空プロセス：TMP+DP
圧力制御
APC制御
制御操作
制御：PLC 操作：タッチパネルまたはPC
データロギング
外部メモリまたはPC
基板搬送
真空搬送ロボット
型番
酸化膜／窒化膜プラズマCVD装置シリーズ
酸化膜／窒化膜プラズマCVD装置取扱企業
ジャパンクリエイト株式会社カテゴリ
レビューは全てメトリー経由で実際に見積もりをしたユーザーによるものです
5.0
評判がとても良い
2024年12月12日にレビュー
回答が速やかに有りました。しかし、残念ながら同社では対応が困難な案件でした。
初回返答までの時間・4.22時間もっと見る
CVD装置の製品78点中、注目ランキング上位6点
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
一括見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%
96%以上の方が返答を受け取っています
返答時間が24時間以内の企業の中での注目ランキング
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
一括見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%
96%以上の方が返答を受け取っています
| 商品画像 | 価格 (税抜) | 基板サイズ | 成膜プロセス | プラズマソース | 基板加熱温度 | 真空排気 | 圧力制御 | 制御操作 | データロギング | 基板搬送 | オプション |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
要見積もり | 最大φ12インチ |
SiH4系：SiO2、SiNx、SiON、a-Si TEOS/TMOS系：SiO2 |
CCP型 | 最高300℃ (基板表面) |
低真空プロセス：MBP+DP 高真空プロセス：TMP+DP |
APC制御 |
制御：PLC 操作：タッチパネルまたはPC |
外部メモリまたはPC | 真空搬送ロボット |
300℃以上の高温プロセス、発光分析システム、排ガス処理装置、ガス検知器、シリンダーキャビネット など |
CVD装置の中でこの商品と同じ値をもつ製品
制御操作がPLCの製品
CVD装置をフィルターから探すことができます
