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ギンブルマルチコーター AT-903-株式会社エーティーエー

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スパッタリング方式

DCマグネトロンスパッタリング、放電電圧:DC 1500V max、放電電流:DC 50mA max

ターゲット (別売)

Cr、ITO、Cu、Ni、Pt、Au、Mo、Wなどオプションとして各種ターゲットを用意

使用ガス

Air、Ar

到達真空圧

10-4Pa以下

チャンバー内寸

φ100mm (1ヘッド) 、φ127mm (2ヘッド)

試料ホルダー

φ50mm (1ヘッド) 、φ85mm (2ヘッド)

真空排気

主排気:ターボ分子ポンプ (本体内蔵) 、補助排気:ダイヤフラムポンプ (外置き)

寸法

本体360W×415D×480H (1ヘッド) 、360W×450D×500H (2ヘッド) 、ダイヤフラムポンプ、145W×223D×217H

重量

本体 約30kg、ダイヤフラムポンプ 4kg

電源

AC 100V/200V (出荷時選択) 15A

揺動角度

0~20°

この製品について

■特徴

全方位揺動 (ギンブルモーション) ステージにより回り込みが良いコーティングが可能。完全ドライ排気により試料の汚染防止 (ターボ分子ポンプ+ダイヤフラムポンプ) Cr、ITO、Cu、Ni、Pt、Au、Mo、W等多種類のターゲット使用可能。特殊シャッター機能により試料の熱損傷を抑制。ヘッド数1又は2を選択出来ます。

■オプション

プラズマクリーニング (本体オプション) により有機系異物除去・表面親水化処理可能。カーボンコーティングアタッチメント (オプション) によりカーボン被膜生成が可能 (現在製作中)

  • 型番

    AT-903

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ギンブルマルチコーター AT-903 AT-903の性能表

商品画像 価格 (税抜) スパッタリング方式 ターゲット (別売) 使用ガス 到達真空圧 チャンバー内寸 試料ホルダー 真空排気 寸法 重量 電源 揺動角度
ギンブルマルチコーター AT-903-品番-AT-903 要見積もり DCマグネトロンスパッタリング、放電電圧:DC 1500V max、放電電流:DC 50mA max Cr、ITO、Cu、Ni、Pt、Au、Mo、Wなどオプションとして各種ターゲットを用意 Air、Ar 10-4Pa以下 φ100mm (1ヘッド) 、φ127mm (2ヘッド) φ50mm (1ヘッド) 、φ85mm (2ヘッド) 主排気:ターボ分子ポンプ (本体内蔵) 、補助排気:ダイヤフラムポンプ (外置き) 本体360W×415D×480H (1ヘッド) 、360W×450D×500H (2ヘッド) 、ダイヤフラムポンプ、145W×223D×217H 本体 約30kg、ダイヤフラムポンプ 4kg AC 100V/200V (出荷時選択) 15A 0~20°

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使用用途

#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産

処理基板 mm

20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700

スパッタ方向

アップ ダウン

装置構成

エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室

基板加熱 ℃

100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800

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