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液体原料供給MOCVD装置 研究用 MPC2100H-株式会社エピクエスト

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流量制御

液体マスフローコントローラ

気化方式

熱式気化器

適用

酸化物など

投入室

トランスファーロッド付

この製品について


  • 型番

    MPC2100H

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液体原料供給MOCVD装置 研究用 MPC2100H MPC2100Hの性能表

商品画像 価格 (税抜) リアクタ 基板サイズ 基板加熱 最高加熱温度 流量制御 気化方式 適用 投入室
液体原料供給MOCVD装置 研究用 MPC2100H-品番-MPC2100H 要見積もり 縦型ステンレス製 Φ2インチ×1枚 抵抗加熱方式 800℃ (制御用熱電対値) 液体マスフローコントローラ 熱式気化器 酸化物など トランスファーロッド付

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使用用途

#半導体製造 #光学部品製造 #太陽電池製造 #ディスプレイ製造 #電池材料開発 #センサ開発 #薄膜トランジスタ開発 #表面改質 #機能性材料研究 #MEMS製造 #医療機器製造 #材料評価

到達圧力 Pa

0 - 0.01 0.01 - 1 1 - 10

基板サイズ mm

25 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 650

設置面積 m²

1 - 5 5 - 10 10 - 20

所要電力 kVA

10 - 15 15 - 20 20 - 25 25 - 30 30 - 35

真空槽 mm

500 - 800 800 - 1,000

基板バイアス V

0 - 5,000 5,000 - 25,000

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この商品の取り扱い会社情報

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100.0%


返答時間

18.7時間

会社概要

株式会社エピクエストは2000年に設立し、主にMBE装置、MOCVD装置の開発、製造を行っている会社です。 MBEやMOCVD装置は、天然にない人工結晶を作製する技術であるエピキタシー技術を基盤としており、結晶を成...

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  • 本社所在地: 京都府

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