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返答率
100.0%
返答時間
29.2時間
基板サイズ
Φ2inch、又はΦ4inch
チャンバー
SUS304 内容積15l T/S距離300mm 到達圧力5x10-5Pascal
金属用蒸着源
抵抗加熱式 金属蒸着源 TE1-Box 最大2源
有機蒸着源
抵抗加熱式 有機蒸着源 LTE1 最大4源 (1cc, or 5cc)
真空ポンプ
ターボ分子EXT75DX, ロータリーポンプRV3 (*ドライポンプオプション)
真空計
ワイドレンジピラニゲージ:10-9~1,000mbar
水晶振動子膜厚モニタ
1基 (*最大2基) センサ・オシレータ・ケーブル・ソフトウエア付属
基板シャッター
Φ2”基板シャッターx1 (*Φ4”基板用パドルシャッターオプション)
ソースシャッター
ソースシャッターx1 (*最大4)
フロントビューポート
Φ70mmフロントビューポート (シールドメッシュ)
その他オプション
基板加熱 (Max500℃) , 基板回転 , 上下昇降 , ファスト・ベント
電源
200V 三相 10A 50/60Hz
冷却水
1l/min 18~20℃ <400kpa (max.) Φ6mmクイック継手接続
圧縮空気*
415kpa~550kpa* Φ6mmクイック継手接続
ベントガス*
50kpa (max.) * 純度99.995% Φ6mmクイック継手
型番
nanoPVD-T15A取扱企業
テルモセラ・ジャパン株式会社カテゴリ
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蒸着装置の製品135点中、注目ランキング上位6点
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商品画像 | 価格 (税抜) | 基板サイズ | チャンバー | 金属用蒸着源 | 有機蒸着源 | 真空ポンプ | 真空計 | 水晶振動子膜厚モニタ | 基板シャッター | ソースシャッター | フロントビューポート | その他オプション | 電源 | 冷却水 | 圧縮空気* | ベントガス* |
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要見積もり | Φ2inch、又はΦ4inch | SUS304 内容積15l T/S距離300mm 到達圧力5x10-5Pascal | 抵抗加熱式 金属蒸着源 TE1-Box 最大2源 | 抵抗加熱式 有機蒸着源 LTE1 最大4源 (1cc, or 5cc) | ターボ分子EXT75DX, ロータリーポンプRV3 (*ドライポンプオプション) | ワイドレンジピラニゲージ:10-9~1,000mbar | 1基 (*最大2基) センサ・オシレータ・ケーブル・ソフトウエア付属 | Φ2”基板シャッターx1 (*Φ4”基板用パドルシャッターオプション) | ソースシャッターx1 (*最大4) | Φ70mmフロントビューポート (シールドメッシュ) | 基板加熱 (Max500℃) , 基板回転 , 上下昇降 , ファスト・ベント | 200V 三相 10A 50/60Hz | 1l/min 18~20℃ <400kpa (max.) Φ6mmクイック継手接続 | 415kpa~550kpa* Φ6mmクイック継手接続 | 50kpa (max.) * 純度99.995% Φ6mmクイック継手 |
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排気系主ポンプがターボ分子ポンプの製品
蒸着装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜蒸着方式
抵抗加熱蒸着型 電子ビーム蒸着型成膜環境
真空蒸着型 高真空蒸着型 イナートガス雰囲気型蒸着材料供給方式
単発源型 多元源型特徴機能
自動制御型 高速成膜型 高精度厚さ制御型 クリーン対応型排気時間 分
10 - 15 15 - 20 20 - 25排気系主ポンプ
クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ操作方法
全自動 手動 自動基板サイズ mm
50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000チャンバーサイズ mm
150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400蒸発方式
抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱基板加熱温度 ℃
100 - 500 500 - 800 800 - 1,000膜厚分布 %
1 - 5 5 - 15