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nanoCVD グラフェン/CNT 合成装置-テルモセラ・ジャパン株式会社

nanoCVD-8N | nanoCVD グラフェン/CNT 合成装置
テルモセラ・ジャパン株式会社

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寸法

405 x 415 x 280mm 27kg

電源

単相200V 13A 50/60Hz

プロセスガス

30psi, 200sccm max.1/4inch

圧縮空気

60-80psi, 6mm プッシュロック

この製品について

■特徴

・わずか『30分』でグラフェン/CNTを生成 ・コールドウオール式高速・高精度プロセスコントロール ・今日右側加熱ステージ：RT→Max1,100℃/約3分 ・高精度・再現性に優れた温度盛業：精度±1℃ ・PLCによる自動シーケンス制御 ・CVD実験機として、他の目的での応用も可能

  • 型番

    nanoCVD-8N

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nanoCVD グラフェン/CNT 合成装置 nanoCVD-8Nの性能表

商品画像 価格 (税抜) 寸法 電源 プロセスガス 圧縮空気
nanoCVD グラフェン/CNT 合成装置-品番-nanoCVD-8N 要見積もり 405 x 415 x 280mm 27kg 単相200V 13A 50/60Hz 30psi, 200sccm max.1/4inch 60-80psi, 6mm プッシュロック

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テルモセラ・ジャパン株式会社

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会社概要

半導体・電子部品などの研究・開発・製造プロセスに必要な要素である「熱」応用製品の販売を基盤とし、「基板加熱ヒーター」「温度計測機器」「実験炉」「薄膜実験装置」他企画開発商品の販売を行うことにより先端分野発展の一旦を担い、...

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